[發(fā)明專利]電可擦可編程只讀存儲器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310060615.9 | 申請日: | 2013-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN103165621A | 公開(公告)日: | 2013-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊光軍;胡劍 | 申請(專利權(quán))人: | 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/115 | 分類號: | H01L27/115 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電可擦 可編程 只讀存儲器 | ||
1.一種電可擦可編程只讀存儲器,至少包括:
半導(dǎo)體襯底;
于該半導(dǎo)體襯底上設(shè)置深N阱;
于該深阱上設(shè)有P阱,該P(yáng)阱上具有間隔設(shè)置的源極區(qū)域和漏極區(qū)域及溝道區(qū),該溝道區(qū)位于該源極區(qū)域與該漏極區(qū)域之間;
第一浮柵,設(shè)置于該溝道區(qū)和該源極區(qū)域上方,第二浮柵,設(shè)置于該溝道區(qū)和該漏極區(qū)域上方,該第一浮柵和該第二浮柵分別構(gòu)成第一存儲位單元和第二存儲位單元;
第一控制柵和第二控制柵,分別設(shè)置于該第一浮柵和該第二浮柵上方;以及字線,位于該溝道區(qū)上方并位于該第一浮柵和第二浮柵之間。
2.如權(quán)利要求1所述的一種電可擦可編程只讀存儲器,其特征在于:該半導(dǎo)體襯底為P型襯底。
3.如權(quán)利要求1所述的一種電可擦可編程只讀存儲器,其特征在于:在對該電可擦可編程只讀存儲器進(jìn)行擦除操作時,對選中單元,該第一控制柵及該第二控制柵電壓為0,該第一位線及該第二位線為0,對該字線施加的電壓范圍是[5~9V],對該P(yáng)阱施加的電壓范圍是[-5~-9V],對該深N阱施加的電壓范圍是[5~8V]。
4.如權(quán)利要求1所述的一種電可擦可編程只讀存儲器,其特征在于:在對該電可擦可編程只讀存儲器進(jìn)行擦除操作時,對未選中單元,對P阱施加的電壓范圍是[5~8V]。
5.如權(quán)利要求1所述的一種電可擦可編程只讀存儲器,其特征在于:在對該電可擦可編程只讀存儲器進(jìn)行編程操作時,對選中單元,該第一控制柵施加電壓范圍為5~8V,該第二控制柵施加電壓范圍為3~5V,該第一位線施加電壓范圍為5~7V,及該第二位線施加電流范圍為1~5uA,對該字線施加的電壓范圍是[1~2V],對該P(yáng)阱施加的電壓0V,對該深N阱施加的電壓范圍是0V。
6.如權(quán)利要求1所述的一種電可擦可編程只讀存儲器,其特征在于:在對該電可擦可編程只讀存儲器(EEPROM)進(jìn)行編程和讀取操作時,對所有P阱施加的電壓是0V,N阱施加的電壓是0V。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





