[發明專利]非均勻場強等離子體廢氣處理裝置及處理系統

有效

• 申請號: 201310060432.7
• 申請日: 2013-02-26
• 公開（公告）號: CN103127810A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發明（設計）人: 錢黎明;王祥科;江健;程誠;張芹;余紅君;倪國華;胡浙平;沈杰
• 申請（專利權）人: 中維環保科技有限公司
• 主分類號: B01D53/76
• 分類號: B01D53/76;B03C3/04
• 代理公司: 北京雙收知識產權代理有限公司 11241
• 代理人: 王菊珍

1.一種非均勻場強等離子體廢氣處理裝置，其特征在于：包括等離子殼體(5)，所述等離子殼體(5)上設有進、出氣口，位于進、出氣口之間的等離子殼體(5)的內腔部分上至少一個橫截面內安裝有若干個等離子處理機構(9)，位于同一橫截面內的所述等離子處理機構(9)相互沿外緣方向連接且填滿所在的橫截面，所述等離子處理機構(9)垂直于等離子殼體(5)的進氣口，所述等離子處理機構(9)包括框形基座(10)，所述基座(10)由絕緣材料制成，所述基座(10)的內腔壁沿周向延伸有環狀凸緣(11)，所述凸緣(11)的前、后面分別連接地電極板(12)和高壓電極板(13)，所述地電極板(12)的外緣與凸緣(11)之間設有出風口(14)，所述凸緣(11)與地電極板(12)之間設有絕緣介質板(15)，所述地電極板(12)的外表面設有第一絕緣層(16)，所述地電極板(12)上連接有地電極引出線，所述地電極引出線穿過第一絕緣層(16)后與高壓交流電源的接地端連接，所述高壓電極板(13)的前表面具有若干個尖錐體(17)，各所述尖錐體(17)的后表面為相應的錐形槽，各所述尖錐體(17)的尖端分別設有第一通孔(18)，所述高壓電極板(13)的后表面設有第二絕緣層(19)，所述第二絕緣層(19)上與各第一通孔(18)位置前、后對應的部位分別設有第二通孔(20)，所述高壓電極板(13)連接高壓電極引出線(21)，所述高壓電極引出線(21)穿出基座(10)后與高壓電源的高壓端連接。

2.如權利要求1所述的非均勻場強等離子體廢氣處理裝置，其特征在于：所述等離子殼體(5)為長方體箱式結構，其左、右兩端分別設有變徑的所述進、出氣口，所述等離子處理機構(9)的基座(10)為矩形框架結構，相鄰等離子處理機構(9)的基座(10)之間及相鄰的基座(10)與等離子殼體(5)之間分別通過C型槽鋼(27)和固定螺釘(28)連接在一起。

3.如權利要求2所述的非均勻場強等離子體廢氣處理裝置，其特征在于：所述等離子殼體(5)上設有檢修門(26)。

4.一種使用如權利要求1-3之一所述的非均勻場強等離子體廢氣處理裝置的廢氣處理系統，包括至少一個進氣管(1)和一個排氣管(2)，其特征在于：各所述進氣管(1)分別與填料塔(3)的進氣口連通，各所述填料塔(3)的排氣口分別通過第一連接管(4)與所述處理裝置的等離子殼體(5)的進氣口連通，各所述等離子殼體(5)的出氣口分別通過第二連接管(6)與離心風機(8)連通，所述離心風機(8)分別通過第三連接管(7)與至少一個排氣管(2)連通。

5.如權利要求4所述的非均勻場強等離子體廢氣處理系統，其特征在于：各所述等離子殼體(5)的進氣口與各第二連接管(6)之間分別串連至少一個內部裝有等離子處理機構(9)的等離子殼體(5)。

6.如權利要求5所述的非均勻場強等離子體廢氣處理系統，其特征在于：所述進氣管(1)上設有進氣蝶閥(22)。

7.如權利要求6所述的非均勻場強等離子體廢氣處理系統，其特征在于：所述進氣管(1)與第一旁通管(23)的一端連通，所述第一旁通管(23)上設有旁路蝶閥(24)，所述第一旁通管(23)的另一端與第二連接管(6)連通。