[發明專利]面向大尺度復雜目標模型的電磁波陰影處理方法在審
| 申請號: | 201310058844.7 | 申請日: | 2013-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN104008217A | 公開(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發明(設計)人: | 石嵩;李華芳 | 申請(專利權)人: | 北京市勞動保護科學研究所 |
| 主分類號: | G06F17/50 | 分類號: | G06F17/50;G06T17/30 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 王瑩 |
| 地址: | 100054 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 面向 尺度 復雜 目標 模型 電磁波 陰影 處理 方法 | ||
1.一種面向大尺度復雜目標模型的電磁波陰影處理方法,所述目標模型由三角基面組成;其特征在于,包括步驟:
S1.以電磁波入射方向為z軸建立新坐標系,將目標模型從原坐標系變換至所述新坐標系;
S2.在新坐標系下,將目標模型全部基面沿z軸方向投影,得到xy平面上的全部基面的投影坐標;
S3.依次以目標模型各個基面為目標基面,計算目標基面由于位于其前面的其它基面的遮蔽所產生的第一電磁波陰影,并將目標基面投影與所述第一電磁波陰影進行補集運算,得到除去電磁波陰影的三角基面組;
S4.將上述各三角基面組從新坐標系變換至原坐標系,即得到除去電磁波陰影的,對觀察點的電磁場有貢獻的目標模型基面部分。
2.根據權利要求1所述的電磁波陰影處理方法,其特征在于,所述步驟S3包括:
S301.除去z坐標的最小值大于目標基面的z坐標的最大值的所有基面;
S302.計算目標基面在新坐標系下的xy平面的坐標范圍,除去不在此坐標范圍內的其它基面;
S303.做目標基面投影與剩余其它基面投影的交集運算;
S304.將目標基面投影與此電磁波陰影進行補集運算,結果為一個或多個多邊形;
S305.將上述多邊形變換為三角基面組。
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