[發(fā)明專利]負(fù)壓無塵型對位機(jī)構(gòu)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310058678.0 | 申請日: | 2013-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN104008989A | 公開(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱毓英;李浩瑋;宋柏葦;林柄宏;邱信杰 | 申請(專利權(quán))人: | 全研科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/68 | 分類號: | H01L21/68 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 負(fù)壓無塵型 對位 機(jī)構(gòu) | ||
1.一種負(fù)壓無塵型對位機(jī)構(gòu),包含有:
一固定平臺,其頂緣平面向上環(huán)設(shè)有一圍體于固定平臺周緣;
四XYθ裝置,設(shè)置于固定平臺四個(gè)象限角上,各所述XYθ裝置受驅(qū)動裝置帶動;
一移動平臺,共同設(shè)置于各象限角的各所述XYθ裝置上,通過XYθ裝置能夠在X方向、Y方向以及θ方向移動;
一止漏體,設(shè)置于圍體與移動平臺之間,封閉所述固定平臺與移動平臺所形成的容置空間,且所述止漏體由能夠彈性回復(fù)的材料所構(gòu)成,當(dāng)受力解除后會自行回復(fù)原先造型;
一真空泵,設(shè)置于圍體外側(cè),該真空泵的抽氣端接合于容置空間并對容置空間抽氣使容置空間呈負(fù)壓真空狀態(tài),且所述真空泵受一控制器所控制;
一壓力偵測器,設(shè)置于圍體外側(cè),該壓力偵測器具有一感測端接于容置空間內(nèi)用于感測容置空間內(nèi)的壓力上值及下值,并且將壓力值轉(zhuǎn)換成電信號傳輸?shù)皆摽刂破鳎?/p>
該控制器,用于操控所述XYθ裝置驅(qū)動移動平臺朝X方向、Y方向以及θ方向移動、提供設(shè)定壓力值使真空泵對容置空間進(jìn)行抽氣以及判定壓力偵測器測得的壓力值是否達(dá)到標(biāo)準(zhǔn),當(dāng)壓力到達(dá)設(shè)定上值則停止真空泵,若未達(dá)到設(shè)定下值則自動開啟真空泵進(jìn)行抽氣。
2.如權(quán)利要求1所述的負(fù)壓無塵型對位機(jī)構(gòu),其特征在于,所述圍體與固定平臺之間的間隙選用有機(jī)硅塑料或填補(bǔ)劑。
3.如權(quán)利要求1所述的負(fù)壓無塵型對位機(jī)構(gòu),其特征在于,所述真空泵選用干式真空泵,使受真空泵抽氣的容置空間中不含油、水氣。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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