[發(fā)明專利]一種用于生產(chǎn)音叉型石英晶體諧振器基座的模具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310057488.7 | 申請日: | 2013-02-22 |
| 公開(公告)號: | CN103112079A | 公開(公告)日: | 2013-05-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 喻信東 | 申請(專利權(quán))人: | 湖北泰晶電子科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B28B7/00 | 分類號: | B28B7/00 |
| 代理公司: | 武漢凌達知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(特殊普通合伙) 42221 | 代理人: | 宋國榮 |
| 地址: | 441300 湖北省隨州市曾都*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 生產(chǎn) 音叉 石英 晶體 諧振器 基座 模具 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于生產(chǎn)音叉型石英晶體諧振器基座的模具,屬于生產(chǎn)音叉型石英晶體諧振器工具領(lǐng)域。
背景技術(shù)
中國專利號為201020258698.4的現(xiàn)有技術(shù),其結(jié)構(gòu)方面存在不足之處,例如,不易打孔,也不便于清洗,影響產(chǎn)品質(zhì)量和制造成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是:提供一種用于生產(chǎn)音叉型石英晶體諧振器基座的模具,該模具對現(xiàn)有技術(shù)結(jié)構(gòu)進行改進,使結(jié)構(gòu)更為合理,不在底板上打盲孔,而改為在中板和下板上打通孔,易于生產(chǎn),便于清洗,同時將孔徑變小,能生產(chǎn)尺寸更小、精度更高的音叉型石英晶體諧振器基座。
本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的:
一種用于生產(chǎn)音叉型石英晶體諧振器基座的模具,一種用于生產(chǎn)音叉型石英晶體諧振器基座的模具,包括底板和上蓋,在底板和上蓋之間有下板和中板;下板在底板上,中板在下板上;
所述底板和上蓋均為其中一個面的四周具有凸出邊框的盤形;底板和上蓋兩者的凸出邊框內(nèi)腔長度及寬度對應(yīng)相同,在使用時底板和上蓋兩者凸出邊框相對;所述下板和中板均為平面板,其外周邊分別與底板?和中板的凸出邊框的內(nèi)壁吻合;下板和中板的厚度之和小于底板與上蓋凸出邊框的高度之和;
所述底板和下板及中板6上分別至少有3個用于定位和固定的固定孔;所述固定孔為底板固定孔和下板固定孔及中板固定孔,三種孔的軸線對應(yīng)重合;
下板與中板上分別對應(yīng)分布有若干個用于基座成型的有底的圓柱形的基座模型孔,分別是下板基座模型孔和中板基座模型孔;每個基座模型孔的底部均有兩個用于穿過引線的引線孔,下板上是下板基座模型孔的引線孔,中板上是中板基座模型孔的引線孔。
進一步的技術(shù)方案是:
所述的用于生產(chǎn)音叉型石英晶體諧振器基座的模具,其下板基座模型孔的直徑小于或大于中板基座模型孔的直徑。
所述的用于生產(chǎn)音叉型石英晶體諧振器基座的模具,其底板和上蓋外邊框長度均為110毫米,外邊框?qū)挾?均為90毫米,內(nèi)邊框長度?均為100毫米,內(nèi)邊框?qū)挾?均為80毫米;底板厚度為10毫米,底板凸出邊框高度為2.86毫米;上蓋?厚度為8毫米,上蓋凸出邊框高度為4.25毫米;所述下板和中板的長度?均為100毫米,寬度?均為80毫米;下板厚度為1.28毫米,中板厚度為4毫米。
所述的用于生產(chǎn)音叉型石英晶體諧振器基座的模具,其底板和下板及中板上分別有5個用于定位和固定的固定孔;底板固定孔和下板固定孔及中板固定孔均為3.2毫米的螺絲孔。
所述的用于生產(chǎn)音叉型石英晶體諧振器基座的模具,其下板基座模型孔直徑為0.94毫米,深度為0.78毫米;中板基座模型孔的直徑為0.82毫米,深度為2.5毫米;下板基座模型孔的引線孔和中板基座模型孔的引線孔直徑均為0.82毫米的通孔,每個基座模型孔的兩個引線孔的孔間中心距均為0.31毫米。
本發(fā)明的技術(shù)效果顯著:該模具對現(xiàn)有技術(shù)結(jié)構(gòu)進行了改進,使結(jié)構(gòu)更為合理,不在底板上打盲孔,而改為在中板和下板上打通孔,易于生產(chǎn),便于清洗,同時將孔徑變小,能生產(chǎn)尺寸更小、精度更高的音叉型石英晶體諧振器基座。
附圖說明
下面結(jié)合附圖詳述本發(fā)明的具體結(jié)構(gòu)
圖1是本發(fā)明底板的主視圖。
圖2是圖1的A-O-A剖視圖。
圖3是本發(fā)明下板的主視圖。
圖4是圖3的B-B剖視圖。
圖5是本發(fā)明中板的主視圖。
圖6是圖5的剖C-C剖視圖。
圖7是本發(fā)明上蓋的主視圖。
圖8是圖7的D-D剖視圖。
圖9是圖4的M局部放大圖。
具體實施方式
結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步說明如下:
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