[發(fā)明專利]描繪設(shè)備以及制造物品的方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310057029.9
• 申請(qǐng)日: 2013-02-22
• 公開（公告）號(hào): CN103295863A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大石哲;村木真人;千德孝一;山口渉;稻秀樹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01J37/153
• 分類號(hào): H01J37/153
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 歐陽(yáng)帆

1.一種利用多個(gè)帶電粒子束在襯底上描繪圖案的描繪設(shè)備，所述描繪設(shè)備包括：

帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)，被配置為將多個(gè)帶電粒子束發(fā)射到襯底上；以及

控制器，被配置為控制帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)的操作，

其中控制器被配置為控制所述操作以便補(bǔ)償基于襯底的表面的起伏的第一數(shù)據(jù)和多個(gè)帶電粒子束中的每一個(gè)帶電粒子束相對(duì)于帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)的軸的傾斜的第二數(shù)據(jù)而確定的圖案的畸變。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的描繪設(shè)備，其中控制器被配置為控制所述操作以便補(bǔ)償所述圖案相對(duì)于已經(jīng)在襯底上形成的圖案的畸變。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的描繪設(shè)備，其中控制器被配置為基于根據(jù)第一數(shù)據(jù)和第二數(shù)據(jù)確定的多個(gè)帶電粒子束中的每一個(gè)帶電粒子束在襯底上的位置來改變將被給予帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)的描繪數(shù)據(jù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的描繪設(shè)備，其中

帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)包括多個(gè)偏轉(zhuǎn)器，所述多個(gè)偏轉(zhuǎn)器被配置為分別使多個(gè)帶電粒子束偏轉(zhuǎn)以便分別在襯底上掃描多個(gè)帶電粒子束，以及

控制器被配置為基于根據(jù)第一數(shù)據(jù)和第二數(shù)據(jù)確定的多個(gè)帶電粒子束中的每一個(gè)帶電粒子束在襯底上的位置來改變對(duì)于多個(gè)偏轉(zhuǎn)器的命令。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的描繪設(shè)備，還包括被配置為測(cè)量所述起伏的測(cè)量裝置。

6.一種制造物品的方法，所述方法包括如下步驟：

通過使用在權(quán)利要求1到5中的一項(xiàng)中限定的描繪設(shè)備在襯底上執(zhí)行描繪；

使已經(jīng)經(jīng)受描繪的襯底顯影。