[發明專利]一種TiNi合金表面制備金剛石涂層的方法

有效

• 申請號: 201310055603.7
• 申請日: 2013-02-21
• 公開（公告）號: CN103147063A
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 賀志勇;王振霞;于盛旺;申艷艷;趙遠濤;寧來元;金騰
• 申請（專利權）人: 太原理工大學
• 主分類號: C23C16/27
• 分類號: C23C16/27;C23C14/16;C23C14/32;C23C28/00
• 代理公司: 太原科衛專利事務所(普通合伙) 14100
• 代理人: 朱源

1.一種TiNi合金表面制備金剛石涂層的方法，其特征在于，包括以下步驟：

利用雙層輝光離子滲金屬方法在TiNi合金表面滲鉬，然后利用化學氣相沉積方法進行金剛石薄膜沉積，使TiNi合金表面形成金剛石薄膜/滲鉬層復合涂層，即得成品。

2.根據權利要求1所述的一種TiNi合金表面制備金剛石涂層的方法，其特征在于：

????所述的利用雙層輝光離子滲金屬方法在TiNi合金表面滲鉬是首先將TiNi合金置入雙層輝光離子滲金屬爐，濺射靶材選用鉬板，靶材和TiNi合金采用豎直懸掛設置，間距為20mm，工作氣體為高純氬氣；濺射完成后，對TiNi合金表面進行基材濺射清理，工藝參數為：工作氣壓20±5Pa，基材工作電壓400～700V，清理時間0.5h；最后對TiNi合金表面進行滲鉬，工藝參數為：工作氣壓40±5Pa，濺射靶電壓600～800V，基材工作電壓250～450V，試樣溫度900～950℃，保溫時間2～3h，得到表面滲鉬的TiNi合金基材；

所述的利用化學氣相沉積方法進行金剛石薄膜沉積，是將上述表面滲鉬的TiNi合金基材置于反應室，反應氣體為CH₄與H₂，其中CH₄體積含量為0.5%～1.5%，氣體壓力7～9KPa，沉積溫度700～900℃，沉積時間1～5h，即得成品。

3.根據權利要求2所述的一種TiNi合金表面制備金剛石涂層的方法，其特征在于：所述的氬氣的純度≥99.999%。