[發(fā)明專利]納米口裝置陣列：它們的制備以及在大分子分析中的應(yīng)用

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310054745.1
• 申請(qǐng)日: 2007-07-19
• 公開（公告）號(hào): CN103203256A
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曹涵;帕里克希特·A·德什潘德;邁克爾·D·奧斯汀;邁克爾·博伊斯-亞契諾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 博納基因技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B01L3/00
• 分類號(hào): B01L3/00;C12Q1/68;C12M1/34;B82Y30/00
• 代理公司: 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 張穎;謝麗娜

1.表征大分子的一種或多種特征的方法，包括：

使至少一部分位于納米通道內(nèi)的大分子線性化，

至少一部分納米通道能夠物理制約大分子的至少一部分，以便大分子的該部分維持在線性形式，并且

納米通道含有至少一個(gè)縮窄；

將大分子的至少一部分在納米通道的至少一部分內(nèi)運(yùn)送，使得大分子的至少一部分通過所述縮窄；

監(jiān)測至少一個(gè)與大分子通過所述縮窄相關(guān)聯(lián)而產(chǎn)生的信號(hào)；以及

將所述至少一個(gè)信號(hào)與大分子的一種或多種特征聯(lián)系起來。

2.權(quán)利要求1的方法，其中所述運(yùn)送包括將大分子暴露于梯度。

3.權(quán)利要求1的方法，其中信號(hào)包括視覺信號(hào)、紅外信號(hào)、紫外信號(hào)、放射性信號(hào)、磁信號(hào)、電信號(hào)、電磁信號(hào)或其任何組合。

4.權(quán)利要求1的方法，其中大分子含有一種或多種標(biāo)記物。

5.分析線性化大分子的裝置，包含：

兩個(gè)或多個(gè)流體儲(chǔ)液器；以及

含有縮窄的納米通道，

納米通道使至少兩個(gè)流體儲(chǔ)液器彼此之間流體連通，以及

納米通道的至少一部分或縮窄的至少一部分能夠物理制約大分子的至少一部分，以便大分子的該部分維持基本線性的形式。

6.權(quán)利要求5的裝置，其中納米通道包含的有效內(nèi)徑為大約0.5nm到大約1000nm。

7.權(quán)利要求5的裝置，其中所述縮窄包含的有效內(nèi)徑為大約0.5nm到大約100nm。

8.權(quán)利要求5的裝置，還包含梯度發(fā)生器。

9.權(quán)利要求5的裝置，還包括檢測器，能夠檢測由線性化大分子的至少一部分通過縮窄而產(chǎn)生的信號(hào)。

10.運(yùn)送大分子的方法，包括：

提供至少兩個(gè)流體儲(chǔ)液器；

提供至少部分線性化的大分子，

大分子的至少一部分位于納米通道中，

納米通道使至少兩個(gè)流體儲(chǔ)液器彼此之間流體連通，

納米通道含有縮窄；以及

對(duì)大分子施加梯度，

梯度導(dǎo)致線性化的大分子的至少一部分在納米通道的至少一部分內(nèi)被運(yùn)送。

11.制造縮窄的納米通道的方法，包括

提供納米通道

納米通道的內(nèi)徑為大約0.5nm到大約1000nm，并且

納米通道的長度為至少大約10nm；

在納米通道內(nèi)的位置處、鄰近納米通道末端的位置處、或這兩個(gè)位置處減小納米通道的內(nèi)徑，以致在納米通道內(nèi)或鄰近產(chǎn)生縮窄，所述縮窄的內(nèi)徑與納米通道流體連通，

該納米通道能夠?qū)⒕€性化的大分子維持在其線性化形式，并且

減小的內(nèi)徑能夠允許線性化大分子的至少一部分通過。

12.權(quán)利要求11的方法，其中納米通道的內(nèi)徑通過將一種或多種材料附加沉積在納米通道內(nèi)或外部來減小。

13.權(quán)利要求11的方法，其中影響納米通道的內(nèi)徑包括下述步驟：（a）將犧牲材料放置在納米通道內(nèi)，（b）將附加材料沉積到犧牲材料附近以便完全堵塞納米通道，以及（c）選擇性去除至少一部分犧牲材料，以便在除去的犧牲材料的維度上產(chǎn)生減小的納米通道內(nèi)徑。

14.用于大分子線性化的方法，包括：

將大分子放置在納米通道中，

納米通道的至少一部分能夠物理制約大分子的至少一部分，以便將大分子的該部分維持在線性形式。

15.權(quán)利要求14的方法，其中納米通道含有縮窄。