[發(fā)明專利]化學(xué)放大的負(fù)性抗蝕劑組合物和圖案形成方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310054677.9
• 申請(qǐng)日: 2008-03-28
• 公開（公告）號(hào): CN103176353A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 武田隆信;渡邊保;小板橋龍二;增永惠一;田中啟順;渡邊修
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/00
• 分類號(hào): G03F7/00;G03F7/038
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 李英

1.一種抗蝕圖案的形成方法，包含：

提供一種光掩膜基板，所述光掩膜基板具有由任選含有氧和/或氮的鉻化合物組成的表面，

提供一種含有聚合物、光產(chǎn)酸劑和交聯(lián)劑的化學(xué)放大負(fù)性抗蝕劑組合物，所述聚合物包含具有通式(1)和(2)的重復(fù)單元：

其中R¹和R²相互獨(dú)立地為氫或甲基，X為選自鹵素原子的吸電子基團(tuán)，m為0或者1到4的整數(shù)，n為1到5的整數(shù)，所述聚合物具有2,000到8,000的重均分子量以及等于或小于1.7的分散性Mw/Mn；

且使用該化學(xué)放大負(fù)性抗蝕劑組合物在所述光掩膜基板的表面形成具有小于0.1μm微細(xì)特征尺寸的抗蝕圖案。

2.權(quán)利要求1的方法，其中用X表示的吸電子基團(tuán)是氯。

3.權(quán)利要求1的方法，其中所述聚合物進(jìn)一步包含具有通式(3)的重復(fù)單元：

其中R³和R⁴分別獨(dú)立地為氫，任選為取代的羥基，或者為鹵素，且u為0或者1到5的整數(shù)。

4.權(quán)利要求1的方法，其中所述光產(chǎn)酸劑是選自锍鹽、碘鹽、磺酰基重氮甲烷和N-磺酰氧基酰亞胺光產(chǎn)酸劑。

5.權(quán)利要求1的方法，其中所述交聯(lián)劑選自烷氧基甲基甘脲和烷氧基甲基三聚氰胺。

6.權(quán)利要求1的方法，其中所述負(fù)性抗蝕劑組合物進(jìn)一步包含一種堿性化合物，選自脂肪族伯、仲和叔胺、混合胺、芳胺、雜環(huán)胺、具有羧基的含氮化合物、具有磺酰基的含氮化合物、具有羥基的含氮化合物、具有羥苯基的含氮化合物、醇類含氮化合物、酰胺衍生物和酰亞胺衍生物。

7.權(quán)利要求1的方法，其中所述負(fù)性抗蝕劑組合物進(jìn)一步包含一種有機(jī)溶劑。