[發(fā)明專(zhuān)利]基板處理裝置、程序、存儲(chǔ)介質(zhì)和決定是否需要調(diào)節(jié)的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310052308.6 | 申請(qǐng)日: | 2007-07-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103173739A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-06-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 森澤大輔 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C16/44 | 分類(lèi)號(hào): | C23C16/44;C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 程序 存儲(chǔ) 介質(zhì) 決定 是否 需要 調(diào)節(jié) 方法 | ||
1.一種對(duì)被處理基板實(shí)施規(guī)定的處理的基板處理裝置,其特征在于,包括:
收容被處理基板并能夠真空排氣的腔室;
向所述腔室內(nèi)供給處理氣體和清掃氣體的氣體供給機(jī)構(gòu);
對(duì)所述腔室內(nèi)進(jìn)行排氣的排氣機(jī)構(gòu);和
控制在所述腔室內(nèi)的處理的控制部,其中,
所述控制部包括控制器和存儲(chǔ)部,
在所述存儲(chǔ)部中保存有多個(gè)加工工藝方案,所述多個(gè)加工工藝方案包括分配給每個(gè)加工工藝組的加工工藝組編號(hào),
在所述存儲(chǔ)部中保存有作為先行加工工藝組的加工工藝組編號(hào)和后繼加工工藝組的加工工藝組編號(hào)的組合的矩陣而構(gòu)成的、針對(duì)是否需要加工工藝間調(diào)節(jié)處理所規(guī)定的表,
所述控制器進(jìn)行控制,使得執(zhí)行包括下述步驟的處理,所述步驟包括:
在所述腔室內(nèi),根據(jù)從所述存儲(chǔ)部讀取的第一方案,實(shí)施先行的第一加工工藝的步驟;
在實(shí)施所述第一加工工藝之后,根據(jù)從所述存儲(chǔ)部讀取的第二方案,實(shí)施后繼的第二加工工藝的步驟;
在所述第一加工工藝結(jié)束后,直至所述第二加工工藝開(kāi)始為止的期間,基于所述第一方案中所包括的加工工藝組編號(hào)、所述第二方案中所包括的加工工藝組編號(hào)以及針對(duì)是否需要所述加工工藝間調(diào)節(jié)所規(guī)定的表,決定是否進(jìn)行調(diào)節(jié)所述腔室內(nèi)環(huán)境的加工工藝間調(diào)節(jié)的步驟;和
當(dāng)通過(guò)所述進(jìn)行決定的步驟決定進(jìn)行加工工藝間調(diào)節(jié)時(shí),在所述第二加工工藝之前,實(shí)施加工工藝間調(diào)節(jié)的步驟。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置,其特征在于:
所述加工工藝間調(diào)節(jié)包括:使用清掃氣體對(duì)所述腔室內(nèi)進(jìn)行清潔化的清掃處理;和在該清掃之后在所述腔室內(nèi)堆積規(guī)定的膜的預(yù)涂敷處理。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置,其特征在于:
所述清掃處理和所述預(yù)涂敷處理的內(nèi)容基于所述第二加工工藝而決定。
4.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置,其特征在于:
所述規(guī)定的處理是用于在被處理基板上形成薄膜的成膜處理。
5.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置,其特征在于:
所述加工工藝組基于使用的原料氣體的種類(lèi)和成膜溫度被預(yù)先分類(lèi)。
6.一種決定是否需要調(diào)節(jié)的方法,其決定在基板處理裝置的腔室內(nèi),是否在兩個(gè)成膜加工工藝之間進(jìn)行調(diào)節(jié)所述腔室內(nèi)環(huán)境的加工工藝間調(diào)節(jié),其特征在于,包括:
將在所述腔室內(nèi)先行進(jìn)行的第一成膜加工工藝的加工工藝組編號(hào)保存在存儲(chǔ)部中的步驟;
從所述存儲(chǔ)部取得所述第一成膜加工工藝的加工工藝組編號(hào)的步驟;
根據(jù)關(guān)于在所述第一成膜加工工藝之后在所述腔室內(nèi)實(shí)施預(yù)定的后繼的第二成膜加工工藝的內(nèi)容所規(guī)定的加工工藝方案,取得所述第二成膜加工工藝的加工工藝組編號(hào)的步驟;和
基于取得的所述第一成膜加工工藝的加工工藝組編號(hào)、所述第二成膜加工工藝的加工工藝組編號(hào)以及作為先行加工工藝組的加工工藝組編號(hào)和后繼加工工藝組的加工工藝組編號(hào)的組合的矩陣而構(gòu)成的、針對(duì)是否需要加工工藝間調(diào)節(jié)處理所規(guī)定的表,決定是否在所述第一成膜加工工藝和所述第二成膜加工工藝之間進(jìn)行所述加工工藝間調(diào)節(jié)的步驟。
7.一種決定是否需要調(diào)節(jié)的方法,其決定在基板處理裝置的腔室內(nèi),是否進(jìn)行調(diào)節(jié)該腔室內(nèi)環(huán)境的調(diào)節(jié),其特征在于,包括:
將在所述腔室內(nèi)先行進(jìn)行的第一成膜加工工藝的加工工藝組編號(hào)保存在存儲(chǔ)部中的步驟;
判斷在所述腔室內(nèi)進(jìn)行的第一成膜加工工藝中被處理基板的處理個(gè)數(shù)或者成膜厚度的累計(jì)值是否達(dá)到作為實(shí)施在所述第一成膜加工工藝的中途進(jìn)行的個(gè)數(shù)/膜厚基準(zhǔn)的調(diào)節(jié)的契機(jī)預(yù)先規(guī)定的設(shè)定值的步驟;
在沒(méi)有達(dá)到所述設(shè)定值時(shí),從所述存儲(chǔ)部取得所述第一成膜加工工藝的加工工藝組編號(hào)的步驟;
根據(jù)針對(duì)所述第一成膜加工工藝后在所述腔室內(nèi)實(shí)施預(yù)定的后繼的第二成膜加工工藝的內(nèi)容規(guī)定的加工工藝方案,取得所述第二成膜加工工藝的加工工藝組編號(hào)的步驟;和
基于取得的所述第一成膜加工工藝的加工工藝組編號(hào)、所述第二成膜加工工藝的加工工藝組編號(hào)以及作為先行加工工藝組的加工工藝組編號(hào)和后繼加工工藝組的加工工藝組編號(hào)的組合的矩陣而構(gòu)成的、針對(duì)是否需要加工工藝間調(diào)節(jié)處理所規(guī)定的表,決定是否在所述第一成膜加工工藝和所述第二成膜加工工藝之間進(jìn)行所述加工工藝間調(diào)節(jié)的步驟。
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C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
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