[發(fā)明專利]轉(zhuǎn)窯密封系統(tǒng)無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310050751.X | 申請(qǐng)日： | 2013-02-05 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN103115364A | 公開（公告）日： | 2013-05-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 黃新光;劉永隆;林家泰;林蔚丞 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 上海凱鴻環(huán)保工程有限公司 |
| 主分類號(hào)： | F23G5/20 | 分類號(hào)： | F23G5/20;F23G5/44 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 200333 上海市金沙江*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 密封 系統(tǒng) | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種轉(zhuǎn)窯密封系統(tǒng)，其特征在于，其包括相互配合的剛性密封和柔性密封，所述剛性密封包括與轉(zhuǎn)窯連接的徑向、軸向迷宮式密封以及位于迷宮式密封下端的物料反射裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)窯密封系統(tǒng)，其特征在于：其還設(shè)置有正壓吹掃密封裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)窯密封系統(tǒng)，其特征在于：其還包括有：動(dòng)、靜支撐架，動(dòng)、靜磨擦片、返灰斗、張緊裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)窯密封系統(tǒng)，其特征在于：所述物料反射裝置為反射板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)窯密封系統(tǒng)，其特征在于：還包括與柔性密封貼實(shí)的動(dòng)摩擦環(huán)。
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