[發(fā)明專利]光阻剝離液組合物及其應(yīng)用無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310050008.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-02-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103293883A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉騏銘;施俊安 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 奇美實(shí)業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/42 | 分類號(hào): | G03F7/42 |
| 代理公司: | 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國(guó) |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣臺(tái)南*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 剝離 組合 及其 應(yīng)用 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是有關(guān)于一種光阻剝離液組合物,且特別是有關(guān)于一種適用于去除已形成的金屬配線上的光阻又避免腐蝕金屬配線的光阻剝離液組合物,及其應(yīng)用。
背景技術(shù)
近來(lái)隨著光微影制程的演進(jìn),線路的布局越來(lái)越精細(xì),因此除了曝光技術(shù)及光阻成份上的改良外,也越來(lái)越重視光阻剝除步驟的技術(shù)。
光阻剝除步驟已廣泛運(yùn)用于微影制程中,利用光阻剝離液,可去除已形成的金屬配線上的光阻。以下例舉液晶面板的半導(dǎo)體線路及其電極區(qū)的制程,概述已知的光阻剝除步驟。
一般而言,可利用化學(xué)氣相沉積(CVD)或?yàn)R鍍等方式,在硅或玻璃基板上形成單層或多層的金屬膜與二氧化硅等絕緣膜,其中適用于上述金屬膜的材料可例如鋁、鋁-銅等鋁合金;鈦、氮化鈦等,而適用于上述硅基板的材料可例如非晶硅(a-Si)、多晶硅(p-Si)等。接著,在金屬膜與絕緣膜上均勻涂布光阻層,經(jīng)曝光、顯影處理后,形成光阻圖案。此時(shí),以光阻圖案為掩模,選擇性蝕刻上述的絕緣膜以及金屬膜。之后,利用光阻剝離液去除光阻圖案,以形成多個(gè)金屬配線。然而,在形成多層金屬配線有多層時(shí),必要時(shí),上述光阻剝離液必須重復(fù)處理多次,才能去除光阻圖案,形成電極區(qū)。上述制程與材料的相關(guān)文獻(xiàn)可參閱如日本特開第2005-70230號(hào)公開特許公報(bào)、特開第2004-287288號(hào)公開特許公報(bào)等。
上述已知使用的光阻剝離液,雖具有甚佳的光阻剝離性,但對(duì)于金屬線路,尤其是鋁金屬線路,特別容易造成腐蝕。
有鑒于此,亟需提出一種光阻剝離液組合物,藉以改善已知光阻剝離液容易腐蝕已形成的金屬線路所致的種種缺點(diǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種光阻剝離液組合物,可以基本上改善已知光阻剝離液容易腐蝕已形成的金屬線路所致的種種缺點(diǎn)。
因此,本發(fā)明的一個(gè)方面在于提供一種光阻剝離液組合物,該光阻剝離液組合物包含醇胺類化合物(A)、二醇類及/或醇醚類化合物(B)以及砜類及/或亞砜類的有機(jī)溶劑(C)。
本發(fā)明的另一方面在于提供一種光阻剝離的方法,其是使用上述的光阻剝離液組合物,剝離玻璃基板上的光阻層,藉此改善已知光阻剝離液容易腐蝕已形成的金屬線路等缺點(diǎn)。
本發(fā)明的光阻剝離液組合物包含醇胺類化合物(A)、二醇類及/或醇醚類化合物(B)以及砜類及/或亞砜類的有機(jī)溶劑(C),以下析述之。
醇胺類化合物(A)
本發(fā)明的醇胺類化合物(A)包括一級(jí)脂肪族胺、二級(jí)脂肪族胺以及三級(jí)脂肪族胺,其具體例如:一乙醇胺、異丙醇胺、N-甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、2-(2-氨基甲氧基)乙醇以及2-(2-氨基乙氧基)乙醇等一級(jí)脂肪族胺;二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、2-(2-氨基乙基氨基)乙醇(2-(2-aminoethyl?amino)ethanol)、2-甲基氨基乙醇等的二級(jí)脂肪族胺;三乙醇胺、三乙氨基醇(triethylaminoethanol)等的三級(jí)脂肪族胺。
以上列舉的醇胺類化合物(A)乃以一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、N-甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、2-(2-氨基甲氧基)乙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇或上述的任意組合為較佳。上述的醇胺類化合物(A)一般可單獨(dú)使用一種或混合多種使用。
一般而言,上述的醇胺類化合物(A)可藉由破壞分子間或分子的吸引力,在光阻與其粘附的基板之間形成空隙,增加光阻剝離液整體的膨潤(rùn)效果,從而提高光阻的剝除性以及操作溫度依存性,并減少殘?jiān)l(fā)生。
本發(fā)明的光阻剝離液組合物若未使用醇胺類化合物(A),則所得的光阻剝離液會(huì)有光阻殘留及操作溫度依存性不佳等問(wèn)題。
二醇類及/或醇醚類化合物(B)
上述的二醇類及/或醇醚類化合物(B),其具體例如乙二醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單甲醚醋酸酯、乙二醇單乙醚醋酸酯、二乙二醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單戊醚、二乙二醇單己醚、二乙二醇單苯醚、三乙二醇單甲醚、三乙二醇單乙醚、三乙二醇單丁醚等乙二醇及/或乙二醇醚類;丙二醇、丙二醇單甲醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚等、二丙二醇單丙醚、二丙二醇單丁醚、三丙二醇單甲醚等丙二醇及/或丙二醇醚類;以及1,3-丁二醇。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
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G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
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