[發明專利]一種測試材料釋氣率的裝置及方法

有效

• 申請號: 201310049859.7
• 申請日: 2013-02-07
• 公開（公告）號: CN103983532A
• 公開（公告）日: 2014-08-13
• 發明（設計）人: 俞蕓;許琦欣;李佳
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G01N7/00
• 分類號: G01N7/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種測試材料釋氣率的裝置，其特征在于，包括：?

真空室，所述真空室包括第一真空室和第二真空室，所述第一真空室和第二真空室由一個帶有小孔的隔板隔開，所述第二真空室用于放置測試材料，所述第二真空室內設有一輻射燈，用于對測試材料進行加熱控溫；?

泵組，與真空室連接，用于為真空室提供一個真空的環境；?

測量系統，與真空室連接，用于測量所述第一真空室和第二真空室的氣體壓力；?

氣源，提供氣體充入第二真空室中，用于在測試結束時，破壞真空，并且保護真空室內壁免受污染物吸附。?

2.根據權利要求1所述的測試材料釋氣率的裝置，其特征在于，所述測量系統包括：離子規和質譜計，所述離子規通過第三角閥與所述第一真空室連接；所述離子規通過第四角閥與所述第二真空室連接；所述質譜計通過第五角閥與所述第一真空室連接；所述質譜計通過第六角閥與所述第二真空室連接；?

所述離子規用于在所述測試材料放置于所述第二真空室時，測量所述第一真空室內所有氣體組分的第一全壓和第二真空室內所有氣體組分的第二全壓，以及在所述測試材料從所述第二真空室移除后，測量第一真空室內所有氣體組分的第三全壓和第二真空室內所有氣體組分的第四全壓；?

所述質譜計用于在所述測試材料放置于所述第二真空室時，測量所述第一真空室內某一氣體組分的第一分壓和第二真空室內某一氣體組分的第二分壓，以及所述測試材料從所述第二真空室移除后，測量所述第一真空室內某一氣體組分的第三分壓和第二真空室內某一氣體組分的第四分壓。?

3.根據權利要求1所述的測試材料釋氣率的裝置，其特征在于，測試材料釋氣率的裝置還包括通過一閘閥與所述第二真空室連接的光源，所述光源照射測試材料，研究光源對測試材料釋氣率的影響。?

4.根據權利要求3所述的測試材料釋氣率的裝置，其特征在于，所述光源為EUV光源。?

5.根據權利要求1所述的測試材料釋氣率的裝置，其特征在于，所述泵組包括：干泵和分子泵，其中，所述干泵通過一管道與所述分子泵連接，所述分?子泵通過第一角閥與所述第一真空室連接；所述干泵通過第二角閥與所述第一真空室連接。?

6.根據權利要求1所述的測試材料釋氣率的裝置，其特征在于，所述氣源提供的氣體為氮氣。?

7.一種測試材料釋氣率的方法，使用如權利要求1所述的測試材料釋氣率的裝置，其特征在于，測試材料釋氣率的方法的步驟包括：?

打開輻射燈對測試材料進行加熱，并穩定測試材料的溫度；?

啟動泵組，啟動測量系統，當所述真空室達到真空環境后開始測量；?

所述測量系統第一次測量所述第一真空室和第二真空室的氣體壓力；?

關閉泵組，由氣源提供氣體充入第二真空室，破壞所述第二真空室的真空，當真空環境被破壞后，停止充入氣體，移除測試材料；?

啟動泵組，啟動測量系統，當所述真空室達到預設的真空環境后開始測量；?

所述測量系統第二次測量所述第一真空室和第二真空室的氣體壓力；?

根據所述第一次和第二次測量分別得到的所述第一真空室和第二真空室的氣體壓力得出測試材料的釋氣率。?