[發明專利]電解用電極、電解槽以及電解用電極的制造方法

有效

• 申請號: 201310049435.0
• 申請日: 2013-02-07
• 公開（公告）號: CN103255434B
• 公開（公告）日: 2017-06-09
• 發明（設計）人: 羽根田剛
• 申請（專利權）人: 旭化成株式會社
• 主分類號: C25B11/06
• 分類號: C25B11/06;C25B9/00;B05D7/24;B05D3/08
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 丁香蘭,李洋

1.一種電解用陽極，其具備：

導電性基材、

在所述導電性基材的表面上形成的第一層、和

在所述第一層的表面上形成的第二層，

其中，

所述第一層含有釕氧化物、銥氧化物以及鈦氧化物；

所述第二層含有釕元素且不含銥元素。

2.如權利要求1所述的電解用陽極，其中，所述第二層進一步含有鈦元素。

3.如權利要求2所述的電解用陽極，其中，所述第二層含有釕氧化物作為所述釕元素，并且進一步含有鈦氧化物。

4.如權利要求2所述的電解用陽極，其中，所述第二層僅由釕氧化物和鈦氧化物構成。

5.如權利要求3或4所述的電解用陽極，其中，所述第二層的所述釕氧化物和所述鈦氧化物是固溶體。

6.如權利要求3或4所述的電解用陽極，其中，所述第二層中，相對于1摩爾所述釕氧化物，鈦氧化物的含量為1摩爾～9摩爾。

7.如權利要求1～4任一項所述的電解用陽極，其中，所述第一層中，相對于1摩爾所述釕氧化物，所述銥氧化物的含量為1/5摩爾～3摩爾，并且所述鈦氧化物的含量為1/3摩爾～8摩爾。

8.如權利要求1～4任一項所述的電解用陽極，其中，所述第一層的厚度為0.1μm～5μm，并且所述第二層的厚度為0.1μm～0.5μm。

9.一種電解槽，其具備：

作為陽極的權利要求1～8任一項所述的電解用陽極、和

陰極。

10.一種電解用陽極的制造方法，其具有：

在導電性基材的任意一側的表面上涂布含有釕化合物、銥化合物以及鈦化合物的第一溶液，對所形成的涂膜在含有氧的氣氛下進行燒制，形成第一層的工序；和

在所述第一層的表面上涂布含有釕化合物且不含銥化合物的第二溶液，對所形成的涂膜在含有氧的氣氛下進行燒制，形成第二層的工序。