[發明專利]干涉濾波器、光學模塊以及電子設備

在審

• 申請號: 201310049037.9
• 申請日: 2013-02-07
• 公開（公告）號: CN103257386A
• 公開（公告）日: 2013-08-21
• 發明（設計）人: 新東晉
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: G02B5/28
• 分類號: G02B5/28;G02B26/00;G01N21/01;G01J3/02
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 余剛;吳孟秋

1.一種干涉濾波器，其特征在于，

所述干涉濾波器具備隔著間隙而彼此相對的第一光學膜和第二光學膜，

所述第一光學膜及所述第二光學膜中至少一方具有金屬膜，

所述金屬膜的表面及邊緣部被具有導電性的阻隔膜覆蓋。

2.根據權利要求1所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述阻隔膜的電阻率為8×10⁷Ω·cm以下。

3.根據權利要求1或2所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述金屬膜的材料是Ag單質和以Ag為主成分的合金中任一種，

所述阻隔膜是以選自由銦類氧化物、錫類氧化物及鋅類氧化物組成的組中的一個或多個物質為主成分的膜、或者是以選自所述組中的物質為主成分的膜層積而成的層積膜。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述阻隔膜是以氧化銦錫、Al摻雜氧化鋅、Ga摻雜氧化鋅、Ce摻雜氧化銦、氧化鋅以及氧化錫中的任一個為主成分的膜。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述阻隔膜接地。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的干涉濾波器，其特征在于，

在所述金屬膜的邊緣部設有斜面，在所述斜面上形成有所述阻隔膜。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述第一光學膜、所述第二光學膜中至少一方包含所述金屬膜和用于放置所述金屬膜的其他光學膜，

從所述第一光學膜或所述第二光學膜的厚度方向俯視觀察時所述金屬膜的面積小于所述其他光學膜的面積，并在所述金屬膜和所述其他光學膜之間形成有臺階，所述阻隔膜形成為覆蓋所述臺階。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述第一光學膜設置于第一基板，

所述第二光學膜設置于第二基板，

所述第一基板具有第一電極，

所述第二基板具有第二電極，

通過在第一電極和第二電極之間產生的靜電力可變地控制所述第一光學膜和所述第二光學膜之間的間隙。

9.一種光學模塊，其特征在于，包括：

權利要求1至8中任一項所述的干涉濾波器；以及

檢測部，檢測透過了所述干涉濾波器的光的光量。

10.一種電子設備，其特征在于，包括：

權利要求1至8中任一項所述的干涉濾波器；

檢測部，檢測透過了所述干涉濾波器的光的光量；以及

處理部，根據所述檢測部檢測到的光的光量來實施分析處理。