[發(fā)明專利]干涉濾波器、光學(xué)模塊以及電子設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310049037.9
• 申請(qǐng)日: 2013-02-07
• 公開（公告）號(hào): CN103257386A
• 公開（公告）日: 2013-08-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 新東晉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 精工愛(ài)普生株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G02B5/28
• 分類號(hào): G02B5/28;G02B26/00;G01N21/01;G01J3/02
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 余剛;吳孟秋

1.一種干涉濾波器，其特征在于，

所述干涉濾波器具備隔著間隙而彼此相對(duì)的第一光學(xué)膜和第二光學(xué)膜，

所述第一光學(xué)膜及所述第二光學(xué)膜中至少一方具有金屬膜，

所述金屬膜的表面及邊緣部被具有導(dǎo)電性的阻隔膜覆蓋。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述阻隔膜的電阻率為8×10⁷Ω·cm以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述金屬膜的材料是Ag單質(zhì)和以Ag為主成分的合金中任一種，

所述阻隔膜是以選自由銦類氧化物、錫類氧化物及鋅類氧化物組成的組中的一個(gè)或多個(gè)物質(zhì)為主成分的膜、或者是以選自所述組中的物質(zhì)為主成分的膜層積而成的層積膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述阻隔膜是以氧化銦錫、Al摻雜氧化鋅、Ga摻雜氧化鋅、Ce摻雜氧化銦、氧化鋅以及氧化錫中的任一個(gè)為主成分的膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述阻隔膜接地。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的干涉濾波器，其特征在于，

在所述金屬膜的邊緣部設(shè)有斜面，在所述斜面上形成有所述阻隔膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述第一光學(xué)膜、所述第二光學(xué)膜中至少一方包含所述金屬膜和用于放置所述金屬膜的其他光學(xué)膜，

從所述第一光學(xué)膜或所述第二光學(xué)膜的厚度方向俯視觀察時(shí)所述金屬膜的面積小于所述其他光學(xué)膜的面積，并在所述金屬膜和所述其他光學(xué)膜之間形成有臺(tái)階，所述阻隔膜形成為覆蓋所述臺(tái)階。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的干涉濾波器，其特征在于，

所述第一光學(xué)膜設(shè)置于第一基板，

所述第二光學(xué)膜設(shè)置于第二基板，

所述第一基板具有第一電極，

所述第二基板具有第二電極，

通過(guò)在第一電極和第二電極之間產(chǎn)生的靜電力可變地控制所述第一光學(xué)膜和所述第二光學(xué)膜之間的間隙。

9.一種光學(xué)模塊，其特征在于，包括：

權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的干涉濾波器；以及

檢測(cè)部，檢測(cè)透過(guò)了所述干涉濾波器的光的光量。

10.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：

權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的干涉濾波器；

檢測(cè)部，檢測(cè)透過(guò)了所述干涉濾波器的光的光量；以及

處理部，根據(jù)所述檢測(cè)部檢測(cè)到的光的光量來(lái)實(shí)施分析處理。