[發(fā)明專利]導(dǎo)電性膜卷的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310048931.4
• 申請(qǐng)日: 2013-02-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103247389A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-08-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 藤野望;鷹尾寬行;石橋邦昭
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日東電工株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01B13/00
• 分類號(hào): H01B13/00;H01B5/14;G06F3/044
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及適用于能夠通過(guò)手指或觸控筆（stylus?pen）等的接觸而輸入信息的輸入顯示裝置等的導(dǎo)電性膜的制造方法。

背景技術(shù)

目前，已知一種導(dǎo)電性膜，該導(dǎo)電性膜具備形成在膜基材的兩面的透明導(dǎo)電體層和形成在各透明導(dǎo)電體層的表面的金屬層（專利文獻(xiàn)1）。將這樣的導(dǎo)電性膜用于例如接觸式傳感器時(shí)，對(duì)金屬層進(jìn)行加工，在接觸輸入?yún)^(qū)域的外緣部形成引導(dǎo)布線，從而能夠?qū)崿F(xiàn)窄邊框化。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2011-060146號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

但是，上述現(xiàn)有的導(dǎo)電性膜存在將該膜卷成卷狀時(shí)鄰接的膜彼此壓接的問(wèn)題。如果將壓接的膜彼此剝離，則有時(shí)損傷膜內(nèi)的透明導(dǎo)電體層，可能導(dǎo)致品質(zhì)降低。

本發(fā)明的目的是提供一種鄰接的膜彼此不壓接而能夠維持高品質(zhì)的導(dǎo)電性膜卷的制造方法。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的導(dǎo)電性膜卷的制造方法特征在于包含：第1工序，在膜基材的一側(cè)通過(guò)濺射法順次層疊第1透明導(dǎo)電體層和第1銅層，將得到的第1層疊體卷成卷狀，制成第1卷；第2工序，將所述第1卷在大氣中存放30小時(shí)以上，在所述第1銅層的表面形成含有氧化亞銅的氧化被膜層；第3工序，邊將所述第1卷開(kāi)卷，邊在所述膜基材的另一側(cè)通過(guò)濺射法順次層疊第2透明導(dǎo)電體層和第2銅層，將得到的第2層疊體卷成卷狀，制成第2卷。

優(yōu)選在所述第2工序中，將所述第1卷在大氣中存放36小時(shí)～180小時(shí)。

另外，優(yōu)選在所述第2工序中，形成厚度1nm～15nm的氧化被膜層。

所述氧化被膜層優(yōu)選含有50重量%以上的氧化亞銅，另外，優(yōu)選由含銅、氧化亞銅、氧化銅、碳酸銅以及氫氧化銅的組合物構(gòu)成。

根據(jù)本發(fā)明，因?yàn)閷⑸鲜龅?層疊體卷成卷狀而得的第1卷在大氣中存放30小時(shí)以上，在上述第1銅層的表面形成含有氧化亞銅的氧化被膜層，所以第2卷中鄰接的膜彼此不壓接而能夠維持高品質(zhì)。

附圖說(shuō)明

圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式的導(dǎo)電性膜卷的制造方法的流程圖。

圖2是概略地表示適用圖1的制造方法的濺射裝置的圖。

圖3是表示通過(guò)圖2的濺射裝置制造的導(dǎo)電性膜卷的一例的側(cè)視圖。

符號(hào)說(shuō)明

1???濺射裝置

10???腔室

11???保持部

12???導(dǎo)輥

13???成膜輥

14???靶材

15???靶材

16???導(dǎo)輥

17???保持部

18，19???處理室

20???初始卷

21???卷

30???導(dǎo)電性膜卷

31???導(dǎo)電性膜

32???膜基材

33???透明導(dǎo)電體層

34???銅層

35???透明導(dǎo)電體層

36???銅層

37???氧化被膜層

具體實(shí)施方式

以下邊參照附圖邊詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。

本發(fā)明的制造方法包含：第1工序，邊將膜基材的初始卷開(kāi)卷，邊在低壓氣體中通過(guò)濺射法在膜基材的一側(cè)順次層疊第1透明導(dǎo)電體層和第1銅層，將得到的第1層疊體卷成卷狀，制成第1卷；第2工序，將該第1卷在大氣中存放30小時(shí)以上，在第1銅層的表面形成含有氧化亞銅的氧化被膜層；第3工序，邊將第1卷開(kāi)卷，邊在低壓氣體中通過(guò)濺射法在膜基材的另一側(cè)順次層疊第2透明導(dǎo)電體層和第2銅層，將得到的第2層疊體卷成卷狀，制成第2卷。

上述濺射法通常在低壓氣體中實(shí)施。該低壓氣體中是指標(biāo)準(zhǔn)大氣壓（101325Pa）的1/10以下的氣壓環(huán)境，優(yōu)選為1×10^-5Pa～1Pa。

根據(jù)本發(fā)明的制造方法，通過(guò)在第1銅層的表面形成含有氧化亞銅的氧化被膜層（第2工序），在將第2層疊體卷成卷狀制成第2卷（第3工序）時(shí)，發(fā)揮即使不在導(dǎo)電性膜之間插入襯紙（slip?sheet）也不壓接的優(yōu)異效果。

推測(cè)這是因?yàn)楹胁痪哂凶杂呻娮拥难趸瘉嗐~的氧化被膜層介于鄰接的第1銅層和第2銅層之間，從而能夠防止上述第1銅層和上述第2銅層金屬鍵合。

應(yīng)予說(shuō)明，本發(fā)明的制造方法只要包含上述第1工序～第3工序即可，也可以在發(fā)揮本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)在各工序之間或上述第3工序之后包含其他工序。