[發(fā)明專利]一種干涉SAR分布目標(biāo)仿真方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310048795.9
• 申請(qǐng)日: 2013-02-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103176171A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 汪丙南;韋立登;向茂生;梁興東;丁赤飚
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院電子學(xué)研究所
• 主分類號(hào): G01S7/40
• 分類號(hào): G01S7/40
• 代理公司: 北京理工大學(xué)專利中心 11120
• 代理人: 高燕燕

1.一種干涉SAR分布目標(biāo)仿真方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1：步驟1：場(chǎng)景網(wǎng)格劃分：將場(chǎng)景劃分成眾多小面單元，小面單元中心點(diǎn)的高度為輸入DEM高度；

步驟2：地距坐標(biāo)系到斜距坐標(biāo)系變換：將步驟1中均勻劃分的散射點(diǎn)地距坐標(biāo)變換到斜距上均勻分布坐標(biāo)，由地距線上地形信息和斜距值，插值獲得散射點(diǎn)三維坐標(biāo)，使其能夠被雷達(dá)距離門采集到；

步驟3：通過(guò)步驟2中插值后得到的小面單元，計(jì)算其雙通道后向散射圖：首先由空間幾何關(guān)系，計(jì)算雷達(dá)視線相對(duì)小面單元入射角，由點(diǎn)散射模型計(jì)算小面單元確定性散射特性，然后由相干斑的乘積模型，仿真SAR圖像中的相干斑現(xiàn)象；

步驟4：根據(jù)步驟1至步驟3中建立的幾何模型和散射模型，生成雙通道相關(guān)性回波數(shù)據(jù)。

2.如權(quán)利要求1所述的一種干涉SAR分布目標(biāo)仿真方法，其特征在于，所述步驟2中變換計(jì)算方法如下：其中A4為目標(biāo)點(diǎn)，其坐標(biāo)為(y4,z4)；

(a)已知地距地形z，計(jì)算整個(gè)地距線上散射點(diǎn)斜距：

其中H為平臺(tái)高度，Z是散射點(diǎn)高程，y是地距坐標(biāo)；

(b)尋找散射點(diǎn)A4斜距R4對(duì)應(yīng)的最近雷達(dá)采樣門R4'：

R4′=round(R4)=round(y42+(H-z4)2),]]>其中round()表示距離R4最近的采樣斜距；

(c)插值獲得R4'對(duì)應(yīng)地距上散射點(diǎn)A4’的高程z′₄：

z'₄＝interp(z,R,R′₄)，其中interp為插值函數(shù)；

再由下式計(jì)算該點(diǎn)地距坐標(biāo)：

y4′=R4′2-(H-z4′)2.]]>