[發明專利]微結構導電圖案成型方法及系統

有效

• 申請號: 201310048605.3
• 申請日: 2013-02-06
• 公開（公告）號: CN103197793A
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發明（設計）人: 顧瑩
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲光科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;G03F7/00;B41J2/01
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 鄧云鵬

1.一種微結構導電圖案成型方法，用于在基板上形成微結構導電圖案，其特征在于，包括以下步驟：

在所述基板上涂覆光刻膠，所述光刻膠在所述基板的一表面上形成光膠層；

對所述光膠層進行曝光及顯影，以在所述光膠層上形成與所述微結構導電圖案相一致的凹槽；

在所述光膠層上印刷導電油墨，所述導電油墨進入所述凹槽中；及

烘干所述導電油墨，并清洗所述基板表面上剩余的所述光膠層，最終在所述基板上形成所述微結構導電圖案。

2.根據權利要求1所述的微結構導電圖案成型方法，其特征在于，所述基板為柔性基板。

3.根據權利要求1所述的微結構導電圖案成型方法，其特征在于，制作所述基板的材料為無機硅酸鹽、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯及聚對苯二甲酸乙二酯中的一種或多種。

4.根據權利要求1所述的微結構導電圖案成型方法，其特征在于，所述對所述光膠層進行曝光及顯影，去除所述基板表面上部分的所述光膠層，以在所述光膠層上形成與所述微結構導電圖案相一致的凹槽的步驟具體為：

提供一掩模板，所述掩模板上開設與所述微結構導電圖案相一致的窗口；

通過所述掩模板對所述光膠層進行曝光，在所述光膠層上形成被曝光區域；及

通過顯影液對所述光膠層進行顯影，所述被曝光區域上的光膠層溶于所述顯影液中，所述光膠層上形成與所述微結構導電圖案相一致的凹槽。

5.根據權利要求4所述的微結構導電圖案成型方法，其特征在于，所述清洗所述基板表面上剩余的所述光膠層的方法具體為：

對所述基板表面上剩余的所述光膠層進行曝光；及

通過清洗液對曝光后的所述光膠層進行溶解，使所述基板表面上剩余的所述光膠層被去除。

6.根據權利要求1所述的微結構導電圖案成型方法，其特征在于，所述導電油墨為金溶液、銀溶液、銅溶液、鋁溶液、鐵溶液及鋅溶液中的至少一種。

7.一種微結構導電圖案成型系統，用于在基板上形成微結構導電圖案，其特征在于，包括：

流水線工作臺；

光刻裝置，設置與所述流水線工作臺上，所述光刻裝置可對所述基板的一表面上的光膠層進行曝光；

顯影裝置，設置與所述流水線工作臺上，所述顯影裝置可對曝光后的所述光膠層進行顯影，去除所述基板表面上部分的所述光膠層，以在所述光膠層上形成與所述微結構導電圖案相一致的凹槽；及

油墨印刷裝置，設置與所述流水線工作臺上，所述油墨印刷裝置包括：

噴嘴，所述噴嘴可將導電油墨噴射于所述光膠層上；及

刷子，所述刷子將所述導電油墨在所述光膠層上涂覆均勻，所述導電油墨進入所述凹槽中。

8.根據權利要求7所述的微結構導電圖案成型系統，其特征在于，所述基板為柔性基板。

9.根據權利要求8所述的微結構導電圖案成型系統，其特征在于，還包括：

放卷轉動軸，設置于所述流水線工作臺的一端，所述柔性基板卷繞于所述放卷轉動軸上，并從所述放卷轉動軸中放出；及

收卷轉動軸，設置于所述流水線工作臺的另一端，所述柔性基板從所述放卷轉動軸上放出，傳送并經過所述光刻裝置、所述顯影裝置及所述油墨印刷裝置，最終卷繞于所述收卷轉動軸上。

10.根據權利要求7所述的微結構導電圖案成型系統，其特征在于，所述光刻裝置包括光源及設置于所述光源一側的掩模板，所述掩模板上開設與所述微結構導電圖案相一致的窗口，所述光源發出的光透過所述掩模板的窗口照射至所述光膠層上，并對部分的所述光膠層進行曝光。