[發(fā)明專利]電磁波控制的方法和電器

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310044335.9
• 申請(qǐng)日: 2013-02-05
• 公開（公告）號(hào): CN103152884A
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊俊新
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 楊俊新
• 主分類號(hào): H05B6/00
• 分類號(hào): H05B6/00;H05B6/64
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種電磁波控制的方法，其主要特征是電器內(nèi)與電磁波出口配合的反射表面形狀至少有一個(gè)有焦點(diǎn)的曲面，電磁波出口發(fā)出的電磁波經(jīng)N次反射后的焦點(diǎn)至少有一部分位于最終反射曲面的焦點(diǎn)區(qū)，電磁波經(jīng)曲面反射后至少是近似按曲面反射規(guī)律運(yùn)動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述電磁波控制的方法，其特征是電器內(nèi)與電磁波出口配合的反射表面形狀至少有一個(gè)為拋物面，電磁波出口發(fā)出的電磁波經(jīng)N次反射后的焦點(diǎn)至少有部分位于最終反射拋物面焦點(diǎn)區(qū)，電磁波經(jīng)拋物面反射后至少是近似平行。

3.一種采用根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述電磁波控制方法的電器，至少包括箱體和電磁波出口，其主要特征是電器內(nèi)與電磁波出口配合的反射表面形狀至少有一個(gè)為有焦點(diǎn)曲面，電磁波出口發(fā)出的電磁波經(jīng)N次反射后的焦點(diǎn)至少有部分位于最終反射曲面的焦點(diǎn)區(qū)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述電磁波控制方法的電器，其特征是電器內(nèi)與電磁波出口配合的反射表面由兩個(gè)曲面、或兩個(gè)以上曲面組成，至少有其中一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述電磁波控制方法的電器，其特征是電器內(nèi)與電磁波出口配合曲面的表面形狀至少有一個(gè)為拋物面、或雙曲面、或橢圓面、或任意兩種及以上種組合，至少有其中一種。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述電磁波控制方法的電器，其特征是電器內(nèi)與電磁波出口配合的最終反射表面形狀至少有一個(gè)為拋物面，電磁波出口發(fā)出的電磁波經(jīng)N次發(fā)射后的焦點(diǎn)至少有部分位于最終反射拋物面焦點(diǎn)區(qū)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述電磁波控制方法的電器，其特征是電器內(nèi)電磁波出口形狀分別為點(diǎn)狀、或多邊形、或曲線形、或任意兩種及以上種組合，至少有其中一種。

8.根據(jù)權(quán)利要求3或5所述電磁波控制方法的電器，其特征是電器內(nèi)至少有一個(gè)電磁波出口位于雙曲面的焦點(diǎn)區(qū)、或橢圓面的焦點(diǎn)區(qū)、或反射面的中心區(qū)、或三種中任意兩種位置組合，至少有其中一種。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述電磁波控制方法的電器，其特征是電器內(nèi)至少有一個(gè)表面經(jīng)過處理，分別為拋光加工、或有功能復(fù)合層、或其組合，至少有其中一種。

10.根據(jù)權(quán)利要求3所述電磁波控制方法的電器，其特征是電器內(nèi)電磁波通過面有可更換結(jié)構(gòu)。