[發(fā)明專利]霧化清洗裝置和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310043381.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-01-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103071638A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-05-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉效巖;吳儀;初國(guó)超;王浩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B08B3/02 | 分類號(hào): | B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司: | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 韓國(guó)勝 |
| 地址: | 100015 北京*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 霧化 清洗 裝置 方法 | ||
1.一種霧化清洗裝置,其特征在于,所述霧化清洗裝置包括冷卻結(jié)構(gòu)(3)、氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)以及固定于所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)之上諧振霧化結(jié)構(gòu),所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)固定于所述諧振霧化結(jié)構(gòu)之上,所述諧振霧化結(jié)構(gòu)包括換能器和諧振器(6),所述諧振器(6)上設(shè)有排液孔(15),所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)上開(kāi)有第二進(jìn)液孔、第二進(jìn)氣孔(8)和霧化噴射口(10),所述排液孔(15)與所述第二進(jìn)液孔相連,所述第二進(jìn)液孔與所述霧化噴射口(10)連通,所述第二進(jìn)氣孔(8)和所述霧化噴射口(10)連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化清洗裝置,其特征在于,所述排液孔(15)與所述第二進(jìn)液孔通過(guò)導(dǎo)管(4)相連;所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)為上端封閉且下端開(kāi)口的圓柱形殼體,冷卻結(jié)構(gòu)(3)的側(cè)壁上設(shè)有第三進(jìn)氣孔(2)和排氣孔(11),所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的封閉端設(shè)有電纜接頭(1),所述電纜接頭(1)與所述換能器相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的霧化清洗裝置,其特征在于,所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的內(nèi)部從封閉端向下延伸出與所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的側(cè)壁同心的第二環(huán)狀薄壁,所述第二環(huán)狀薄壁與所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的側(cè)壁之間的空間為第二外環(huán),所述第二環(huán)狀薄壁內(nèi)的空間為第二內(nèi)環(huán),所述第三進(jìn)氣孔(2)設(shè)置于冷卻結(jié)構(gòu)(3)的封閉端且與所述第二內(nèi)環(huán)相連,所述排氣孔(11)設(shè)置于所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的側(cè)壁上且與所述第二外環(huán)相連,所述第二環(huán)狀薄壁下端均布有連通第二外環(huán)與第二內(nèi)環(huán)的第二通孔(12)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的霧化清洗裝置,其特征在于,所述換能器包括壓電晶體(13)和耦合片(19),所述壓電晶體(13)通過(guò)導(dǎo)電膠與耦合片(19)連接,所述耦合片(19)位于所述諧振器(6)之上且將所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的下端密封。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的霧化清洗裝置,其特征在于,所述耦合片(19)由單一介質(zhì)或多介質(zhì)制成,厚度為1/4波長(zhǎng)的整數(shù)倍。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的霧化清洗裝置,其特征在于,所述諧振器(6)為上端開(kāi)口且下端封閉的圓筒結(jié)構(gòu),其上端開(kāi)口通過(guò)所述耦合片(19)密封,所述諧振器(6)的側(cè)壁上還設(shè)有第一進(jìn)氣孔(7)、第一進(jìn)液孔(18)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的霧化清洗裝置,其特征在于,所述諧振器(6)的內(nèi)部從封閉端向上延伸出與所述諧振器(6)的側(cè)壁同心的第一環(huán)狀薄壁,所述第一環(huán)狀薄壁與所述諧振器(6)的側(cè)壁之間的空間為第一外環(huán)(16),所述第一環(huán)狀薄壁內(nèi)的空間為第一內(nèi)環(huán)(20),所述第一進(jìn)氣孔(7)和所述第一進(jìn)液孔(18)設(shè)置于所述諧振器(6)的側(cè)壁上且與所述第一外環(huán)(16)連通,所述排液孔(15)設(shè)置于第一環(huán)狀薄壁上部且與所述第一內(nèi)環(huán)(20)連通,所述諧振器(6)的側(cè)壁上開(kāi)有安裝導(dǎo)管(4)的第一安裝孔,所述第一環(huán)狀薄壁下端均布有連通第一外環(huán)(16)與第一內(nèi)環(huán)(20)的第一通孔(17)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的霧化清洗裝置,其特征在于,在所述第一外環(huán)(16)與所述耦合片(19)之間設(shè)有一個(gè)圓環(huán)形擋板,所述擋板下部沿軸向延伸出凸出部分,使擋板的橫截面成“T”字型,所述擋板下部的凸出部分插入第一外環(huán)(16)并與第一外環(huán)(16)上部粘合。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的霧化清洗裝置,其特征在于,所述擋板的下端面在所述第一通孔(17)之上,所述擋板上開(kāi)有用于安裝導(dǎo)管(4)的第二安裝孔。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的霧化清洗裝置,其特征在于,所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)為圓柱體,在所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)的中心軸上開(kāi)孔形成霧化噴射口(10),在所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)的徑向開(kāi)有第二進(jìn)液孔。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的霧化清洗裝置,其特征在于,所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)的上端設(shè)有法蘭,所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)、諧振器(6)和氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)通過(guò)螺栓固定連接。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-11任一項(xiàng)所述的霧化清洗裝置進(jìn)行霧化清洗的方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1.將第一進(jìn)氣孔(7)、第二進(jìn)氣孔(8)和第三進(jìn)氣孔(2)與外部氣路連接,將第一進(jìn)液孔(18)與外部液路連接;
S2.將電纜接頭(1)與功率放大器連接,將交變電壓施加給壓電晶體(13),使壓電晶體(13)產(chǎn)生振動(dòng)形成兆聲波,使諧振器(6)內(nèi)的液體分裂成超微液滴流并通過(guò)導(dǎo)管(4)進(jìn)入氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5);
S3.在從第二進(jìn)氣孔(8)通入的壓縮空氣的作用下,所述超微液滴流分解成單一的超微液滴,從霧化噴射口(10)噴出,將霧化噴射口(10)對(duì)準(zhǔn)需要清洗的半導(dǎo)體晶片進(jìn)行清洗。
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