[發明專利]旋轉剪切流塔盤

有效

• 申請號: 201310043241.X
• 申請日: 2013-02-04
• 公開（公告）號: CN103143186A
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 沈宏
• 申請（專利權）人: 沈宏
• 主分類號: B01D3/30
• 分類號: B01D3/30;B01D3/14;B01D53/18;B01J19/00;B01J19/32
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司 33201
• 代理人: 王兵;黃美娟

1.旋轉剪切流塔盤，包括塔盤，其特征在于：所述的塔盤上設置若干降液管、若干噴射斜孔，所述的降液管的一端固定在所述的塔盤的外圈、另一端向塔盤中心延伸直至連通在塔盤下方的中心集液管內，所述的中心集液管出液口通入位于中心集液管下方的受液槽內，所述的降液管沿所述的塔盤的周向排布形成一圈降液管圈，并且所述的降液管固定在所述的塔盤的一端高出所述的塔盤上表面；所述的受液槽通過拉筋板與中心集液管連接，并利用中心集液管出口與受液槽溢出口之間的液位差形成液封，且所述的受液槽的槽壁上設置溢出口；所述的噴射斜孔以所述的塔盤的中心為圓心周向排列形成的若干圈同心的噴射斜孔圈，且位于所述的降液管圈的圓內的所述的噴射斜孔圈的噴射口順、逆時針間隔排列、位于所述的降液管圈的圓外的所述的噴射斜孔圈的噴射口朝向所述的塔盤的中心。

2.如權利要求1所述的旋轉剪切流塔盤，其特征在于：所述的降液管圈的圓外設置一圈所述的噴射斜孔圈。

3.如權利要求2所述的旋轉剪切流塔盤，其特征在于：每圈所述的噴射斜孔圈上的噴射斜孔均勻排列。

4.如權利要求3所述的旋轉剪切流塔盤，其特征在于：所述的降液管圈中的降液管均勻排列。

5.如權利要求1所述的旋轉剪切流塔盤，其特征在于：所述的中心集液管和所述的受液槽均位于所述的塔盤中心的正下方。

6.如權利要求4所述的旋轉剪切流塔盤，其特征在于：所述的噴射斜孔根據塔盤的需求制成不同的形狀。

7.如權利要求6所述的旋轉剪切流塔盤，其特征在于：所述的噴射斜孔可采用舌形噴射孔、圓弧形噴射孔、矩形噴射孔或三角形狀的噴射孔。

8.如權利要求5所述的旋轉剪切流塔盤，其特征在于：所述的塔盤的最外緣設置一圈卡子，且所述的塔盤通過卡子固定在與塔壁相焊接的支撐圈上。

9.如權利要求7所述的旋轉剪切流塔盤，其特征在于：所述的噴射斜孔的傾斜角為2~85度。

10.如權利要求8所述的旋轉剪切流塔盤，其特征在于：當塔體的直徑小于1m時，相鄰的塔盤之間通過圓環支架支撐，且塔盤與塔體之間的縫隙用填料密封圈封牢。