[發明專利]一種龍泉青瓷墊燒工藝

無效

• 申請號: 201310041794.1
• 申請日: 2013-01-30
• 公開（公告）號: CN103073266A
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發明（設計）人: 張建平
• 申請（專利權）人: 麗水學院
• 主分類號: C04B33/34
• 分類號: C04B33/34
• 代理公司: 浙江永鼎律師事務所 33233
• 代理人: 陸永強

1.一種龍泉青瓷墊燒工藝，其特征在于，將墊燒部位進行紋樣裝飾處理，包括以下步驟：

①成型：按照設計要求，制作青瓷泥坯；

②干燥：將制作好的青瓷泥坯進行干燥處理，達到半干燥的程度；

③修坯：按照設計要求，將半干燥的青瓷泥坯精修，尤其是墊燒部位需按照設計要求修整可裝飾區域；

④墊燒部位的裝飾：根據青瓷制品的工藝要求，對青瓷泥坯上的墊燒部位進行裝飾，得到青瓷胎體；

⑤墊餅的制作：使用與青瓷泥坯相同的制胎原料制作墊餅，對墊餅進行處理，使其與青瓷胎體需墊燒部位尺寸完全吻合；

⑥素燒：將干燥后的青瓷胎體及墊餅裝進窯爐，燒制5-6小時，使窯溫從常溫逐漸升至750~780℃，然后再繼續保溫10-20分鐘，熄火自然冷卻，得到青瓷素燒胎；

⑦施釉：對青瓷素燒胎進行施釉，施釉后將需墊燒部位表層釉面刮除干凈；

⑧釉燒：將墊餅與青瓷素燒胎上的墊燒部位完全吻合放置，一起裝進窯爐進行二次燒成，經過8-12小時的燒制，使窯溫達到1280℃后止火冷卻，得到墊燒部位裝飾完好的青瓷制品，即成。

2.根據權利要求1所述的龍泉青瓷墊燒工藝，其特征在于：所述的步驟⑧中的具體操作步驟是：a.干燥階段：以2-3℃/min的升溫速度燒制2.5-3小時，使窯溫升至450~500℃；b.氧化階段：以4-5℃/min的升溫速度燒制1.7-2.5小時使窯溫升至960~980℃，使水汽與氧化分解氣體產物充分揮發；c.保溫階段：使窯溫穩定在960~980℃，保溫1-1.5小時，有助于胎、釉中氣體的排出；d.強還原階段：以2-3℃/min的升溫速度燒制1.3-2小時使窯溫升至1200℃，并且使窯爐氣壓加大至0.03-0.04Mpa；e.弱還原階段：再經過1-1.5小時將窯溫升至1280℃；f.保溫階段：將窯溫控制在1275-1280℃，保溫0.5-1小時后止火；g.冷卻階段：采用自然冷卻法，待窯溫冷卻至50-80℃后出窯，燒制完成，即得龍泉青瓷成品。

3.根據權利要求1所述的龍泉青瓷墊燒工藝，其特征在于：所述的步驟①中的成型，使用手工成型或模具成型制作青瓷泥坯。

4.根據權利要求1所述的龍泉青瓷墊燒工藝，其特征在于：所述的步驟④中，使用手工雕刻或模印的方法對青瓷泥坯上的墊燒部位進行裝飾。

5.根據權利要求1所述的龍泉青瓷墊燒工藝，其特征在于：所述的步驟⑤中，采用雕刻或修整的方法對墊餅進行處理。

6.根據權利要求1所述的龍泉青瓷墊燒工藝，其特征在于：所述的步驟⑦中，采用噴釉法或浸釉法對青瓷素燒胎進行施釉。