[發明專利]基板處理裝置和基板處理方法

有效

• 申請號: 201310041341.9
• 申請日: 2013-02-01
• 公開（公告）號: CN103247558B
• 公開（公告）日: 2017-03-29
• 發明（設計）人: 寺本聰寬;林德太郎
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;H01L21/66
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司11322
• 代理人: 龍淳

1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括：

基板輸送機構，其具有保持基板并在水平方向上移動自如的保持部件，用于將基板從一個模塊交接至其它的模塊；

檢測部，在保持部件從一個模塊接收基板之后，向其它的模塊輸送之前，對保持部件上的基板的位置進行檢測；

運算部，根據所述檢測部的檢測結果，求出保持部件上的基板相對于基準位置的偏差量；

暫置模塊，用于暫置所述基板輸送機構從所述一個模塊接收的基板；和

控制部，其輸出控制信號，該控制信號用于對由所述運算部獲得的偏差量的檢測值和偏差量的容許范圍進行比較，當檢測值處于容許范圍時，利用基板輸送機構將基板輸送至其它的模塊，當檢測值脫離容許范圍時，基板輸送機構將該基板交接至暫置模塊，接著進行接收，以使得所述檢測值處于容許范圍。

2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于：

具有存儲部，其對其它的每個模塊設定所述偏差量的容許范圍，并將所述容許范圍與其它的模塊對應地進行存儲。

3.如權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述檢測部設置于基板輸送機構。

4.如權利要求1至3中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述檢測部在沿周向相互隔開間隔的三個部位以上的位置對保持部件上的基板的周邊部的位置進行光學的檢測。

5.如權利要求1至4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述控制部至少在基板輸送機構從暫置模塊接收基板時，對保持部件的交接位置進行補正，以使得所述偏差量的檢測值處于所述偏差量的容許范圍。

6.如權利要求1至5中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述檢測部在保持部件從暫置模塊接收到基板之后，在向其它的模塊輸送之前再次對保持部件上的基板的位置進行檢測，

所述控制部輸出控制信號，該控制信號用于對基于該檢測結果由所述運算部獲得的偏差量的檢測值和偏差量的容許范圍進行比較，當檢測值處于容許范圍時，利用基板輸送機構將基板向其它的模塊輸送，當檢測值脫離容許范圍時，基板輸送機構將該基板再次交接至暫置模塊，接著進行接收，以使得所述檢測值處于容許范圍。

7.如權利要求1至6中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述偏差量是位于保持部件上的基準位置的基板的中心與基于檢測部的檢測結果取得的保持部件上的基板的中心的偏差量。

8.如權利要求1至7中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于：

當利用基板輸送機構將基板向暫置模塊輸送時，與將基板向其它的模塊輸送時相比，使基板輸送機構的動作速度較慢。

9.一種基板處理方法，其為利用具有保持基板并在水平方向上移動自如的保持部件的基板輸送機構，將基板從一個模塊輸送至其它的模塊進行處理的基板處理方法，所述基板處理方法的特征在于，包括：

在所述保持部件從一個模塊接收到基板之后，在向其它的模塊輸送之前，對保持部件上的基板的位置進行檢測的工序；

基于所述檢測結果，求出保持部件上的基板相對于基準位置的偏差量的工序；

對所述偏差量的檢測值和偏差量的容許范圍進行比較，當檢測值處于容許范圍時，利用基板輸送機構將基板向其它的模塊輸送的工序；和

對所述偏差量的檢測值和偏差量的容許范圍進行比較，當檢測值脫離容許范圍時，基板輸送機構將該基板交接至暫置模塊，接著進行接收，以使得所述檢測值處于容許范圍的工序。

10.如權利要求9所述的基板處理方法，其特征在于：

對其它的每個模塊設定所述偏差量的容許范圍，將所述容許范圍被與其它的模塊對應地進行存儲。

11.如權利要求9或10所述的基板處理方法，其特征在于：

對所述保持部件上的基板的位置進行檢測的檢測部設置于基板輸送機構。

12.如權利要求9至11中任一項所述的基板處理方法，其特征在于：

利用基板輸送機構將基板向暫置模塊輸送時，與將基板向其它的模塊輸送時相比，使基板輸送機構的動作速度較慢。