[發明專利]有機薄膜場效應晶體管的制備方法在審
申請號: | 201310040862.2 | 申請日: | 2013-02-01 |
公開(公告)號: | CN103972392A | 公開(公告)日: | 2014-08-06 |
發明(設計)人: | 潘革波;肖燕 | 申請(專利權)人: | 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所 |
主分類號: | H01L51/40 | 分類號: | H01L51/40;H01L51/00 |
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地址: | 215123 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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摘要: | |||
搜索關鍵詞: | 有機 薄膜 場效應 晶體管 制備 方法 | ||
1.一種有機薄膜場效應晶體管的制備方法,其特征在于,包括在襯底上制作有源層的工序,所述有源層是通過氣體噴印工藝將有機半導體化合物噴印到接收層上形成的;
其中,所述氣體噴印工藝的步驟包括:
S1、對有機半導體化合物進行加熱使之升華成氣霧;
S2、將所述氣霧噴射到接收層上。
2.根據權利要求1所述的有機薄膜場效應晶體管的制備方法,其特征在于:對有機半導體化合物進行加熱的溫度范圍為200℃~600℃。
3.根據權利要求1所述的有機薄膜場效應晶體管的制備方法,其特征在于:所述有機半導體化合物為稠環芳香族有機半導體化合物。
4.根據權利要求1所述的有機薄膜場效應晶體管的制備方法,其特征在于:所述有機半導體化合物為并苯類、金屬酞菁類、苝、苝酰亞胺衍生物、苝酐類,四氟基對苯鯤二甲烷金屬類、富勒烯中的一種或兩種以上的組合。
5.根據權利要求1所述的有機薄膜場效應晶體管的制備方法,其特征在于:所述有機薄膜場效應晶體管為底柵-頂接觸、底柵-底接觸、頂柵-底接觸、頂柵-頂接觸的結構中的一種。
6.根據權利要求1所述的有機薄膜場效應晶體管的制備方法,其特征在于:所述襯底的材質為玻璃、陶瓷、硅、塑料中的至少一種。
7.根據權利要求1所述的有機薄膜場效應晶體管的制備方法,其特征在于:所述場效應晶體管包括源電極和漏電極,所述源電極和漏電極的材質為金、銀、銅、PEDOT:PSS聚合物中至少一種。
8.根據權利要求8所述的有機薄膜場效應晶體管的制備方法,其特征在于:所述源電極和漏電極的制作方法是氣溶膠印刷法、噴墨印刷法、磁控濺射、光刻或真空蒸鍍沉積法之一。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇