[發(fā)明專利]一種去除光刻膠的溶液及其應(yīng)用

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310039421.0
• 申請日: 2013-01-31
• 公開（公告）號: CN103076725A
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 唐·伯克曼;陰志先;馬嘉
• 申請（專利權(quán)）人: 北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 王朋飛;張慶敏

1.一種去除光刻膠的溶液，其特征在于，包括A組分和B組分，A組分為硫酸和過氧化氫混合溶液，B組分為聚乙二醇辛基苯基醚。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溶液，其特征在于，A組分和B組分的重量比為9：1。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的溶液，其特征在于，A組分由濃度為96%的硫酸和濃度為30%的過氧化氫按4:1的重量比組成。

4.權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述溶液在去除光刻膠中的應(yīng)用。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的應(yīng)用，其特征在于，包括以下步驟：先將A組分噴灑到半導(dǎo)體晶片上，再將B組分噴灑到晶片的相同位置上，使A組分和B組分混合。