[發明專利]衛生洗凈裝置

有效

• 申請號: 201310039043.6
• 申請日: 2013-01-31
• 公開（公告）號: CN103243791A
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發明（設計）人: 八木晉一;一木智康;雨森博彰;梅本歩;諸富洋;山本政宏;松本勘
• 申請（專利權）人: TOTO株式會社
• 主分類號: E03D9/02
• 分類號: E03D9/02
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 周善來;李雪春

技術領域

本發明的形態通常涉及一種沖廁裝置。

背景技術

用洗凈水洗凈大便器或小便器的盆面之后，當殘留在盆面的殘水蒸發而盆面干燥時，會存在水垢附著在盆面上的情況。當水垢附著在盆面上時，盆面則會臟污。而且，由于水垢牢固地附著在盆面上，所以除掉水垢比較困難。因此，需要抑制水垢生成的技術或者即使在水垢附著在盆面的情況下也能夠容易地除去該水垢的技術。并且，硅酸成分的水垢比鈣成分、鎂成分等的水垢更牢固地粘著在便器的瓷釉層表面。因此，人們渴望能夠容易地除去硅酸成分的水垢的技術。

這里存在一種預先將成為水垢成分的鈣離子或鎂離子等除去的衛生洗凈裝置（專利文獻1）。但是，專利文獻1記載的衛生洗凈裝置存在裝置規模變大的問題。

另外還存在一種殺菌性上水供給式洗凈用住宅設備機器（專利文獻2），其生成具有pH為4～6的氫離子濃度的殺菌性上水，并將殺菌性上水向被洗凈物體供給。另外，還存在一種水洗式大便器（專利文獻3），在執行洗凈操作并經過規定時間后向盆部吐出功能水。但是，在專利文獻2及專利文獻3中沒有關于硅酸成分的水垢的記載，在抑制水垢生成方面或者在容易地除去水垢方面還有改善的余地。

專利文獻1：日本國特開2004-270185號公報

專利文獻2：日本國特開平7-136660號公報

專利文獻3：日本國特開2004-92278號公報

發明內容

本發明是基于這樣的課題認識而進行的，目的在于提供一種可抑制水垢生成或者可以容易地除去水垢的沖廁裝置。

第1個發明是一種沖廁裝置，其特征在于，具備：洗凈單元，洗凈便器的盆的表面；供水單元，向所述洗凈單元供給洗凈水；硅酸成分聚合抑制單元，向殘留在所述盆的表面的洗凈水中添加硅酸成分聚合抑制劑，抑制在所述盆的洗凈后殘留在所述盆表面的洗凈水中的硅酸成分聚合；及控制部，執行以下控制，在所述盆的表面干燥之前開始所述硅酸成分聚合抑制單元的動作。

牢固地附著在盆表面的水垢是通過殘留在盆表面的殘水中的硅酸成分聚合而形成的。根據本發明，在盆的表面干燥之前，能夠向殘留在盆表面的洗凈水中添加硅酸成分聚合抑制劑。由此，能夠抑制硅酸成分聚合，能夠抑制水垢生成。而且，由此，通過簡單的清掃便能夠剝離（除去）水垢。

另外，第2個發明的沖廁裝置的特征在于，在第1個發明中，所述硅酸成分聚合抑制劑為酸性水。

根據此沖廁裝置，能夠抑制殘水中的硅酸成分的聚合反應進行。即，在硅酸不聚合的狀態下，當殘水蒸發而盆表面干燥時，在中性區域則產生咖啡環現象。在該過程中會進行硅酸的聚合反應。另一方面，在酸性區域不產生咖啡環現象。于是，形成溶劑向中央方向流動且硅酸不聚合的狀態。由此，能夠抑制殘水中的硅酸成分的聚合反應進行，能夠抑制水垢生成。而且，能夠容易地除去所生成的水垢。

另外，第3個發明的沖廁裝置的特征在于，在第2個發明中，所述酸性水含有金屬離子。

根據此沖廁裝置，當金屬離子被添加在酸性水中后，則在所生成的水垢中存在于硅酸（SiO₂）分子之間。而且，當因洗凈等而供給水時，金屬離子則被析出。于是使硅酸凝聚物更加脆化，從而可容易地除去水垢。

另外，第4個發明的沖廁裝置的特征在于，在第2或第3個發明中，所述酸性水的酸性度為pH2.5～5.0。

根據此沖廁裝置，由于酸性水的酸性度為pH2.5～5.0，所以通過電解水的電解槽可以生成酸性水。因此，不需要進行例如藥劑補充等維護。而且，酸性度為pH2.5～5.0的酸性水可以將殘留在盆表面的殘水的酸性度調整為例如約pH2.5～5.0左右。

另外，第5個發明的沖廁裝置的特征在于，在第1至第4的任意一項發明中，在所述盆的表面形成有光觸媒層。

根據此沖廁裝置，由于在盆的表面形成有光觸媒層，所以當向盆表面照射紫外線時，光觸媒被激發從而發生氧化還原反應。其結果，能夠得到分解雜菌、細菌、臭味物質等有機物的分解作用以及使表面容易被水潤濕的親水作用。由于形成有光觸媒層的盆可抑制污物附著或可分解污物，并且可以容易地除去附著的水垢，所以能夠減輕清掃便器的負擔，可保持干凈的便器。而且，由于通過向殘留在盆表面的洗凈水中添加硅酸成分聚合抑制劑能夠容易地除去水垢，所以能夠抑制出現紫外線照射不到水垢下的光觸媒層的情況。由此，能夠抑制光觸媒的活性降低。

根據本發明的形態，提供一種可抑制水垢生成或者可以容易地除去水垢的沖廁裝置。

附圖說明