[發明專利]放射線成像設備及其控制方法,和放射線成像系統有效
| 申請號: | 201310038619.7 | 申請日: | 2013-01-31 |
| 公開(公告)號: | CN103239245A | 公開(公告)日: | 2013-08-14 |
| 發明(設計)人: | 辻哲矢 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 夏東棟;陸錦華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 放射線 成像 設備 及其 控制 方法 系統 | ||
1.一種放射線成像設備,包括:
用于檢測被攝體的射線照相圖像的圖像檢測器,所述圖像檢測器包括被布置在圖像捕獲領域中的多個像素,各個所述像素接收從放射線源發射的放射線并且根據接收的放射線劑量輸出像素值;
像素確定器,所述像素確定器用于基于所述像素值從所述像素確定至少一個典型低值像素,并且將所述典型低值像素設置作為曝光控制像素;和
比較器,所述比較器用于比較第一積分值與預定的第一閾值,所述第一積分值是所述典型低值像素的所述像素值的積分值,并且執行放射線發射控制,從而當所述第一積分值已經達到所述第一閾值時,所述放射線源停止發射所述放射線。
2.根據權利要求1所述的放射線成像設備,其中
所述像素確定器基于所述像素值從所述像素確定至少一個典型高值像素,并且將所述典型高值像素設置作為另一個曝光控制像素;并且
所述比較器比較第二積分值與預定第二閾值,所述第二積分值是所述典型高值像素的所述像素值的積分值,并且執行所述放射線發射控制,從而當所述第二積分值已經達到所述第二閾值時,即便所述第一積分值沒有達到所述第一閾值,所述放射線源也停止發射所述放射線。
3.根據權利要求2所述的放射線成像設備,進一步包括:
照射野確定器,所述照射野確定器用于基于所述像素值確定照射野,所述照射野是在所述圖像捕獲領域中利用所述放射線照射的范圍,其中
所述像素確定器在所述照射野中確定直接曝光區域、植入物區域、以及被攝體區域,所述直接曝光區域是不通過所述被攝體被直接地施加所述放射線的區域,所述植入物區域是在所述被攝體中植入的植入物的區域,所述被攝體區域是從所述照射野排除所述直接曝光區域和所述植入物區域的區域;并且
從所述被攝體區域中的所述像素中確定所述典型低值像素和所述典型高值像素。
4.根據權利要求3所述的放射線成像設備,其中所述像素確定器基于所述照射野中的所述像素的所述像素值的柱狀圖確定所述被攝體區域。
5.根據權利要求2所述的放射線成像設備,其中所述像素確定器從在指標區域內存在的所述像素中確定所述典型低值像素,并且所述指標區域是根據所要成像的身體部位在所述圖像捕獲領域中預定的。
6.根據權利要求5所述的放射線成像設備,所述像素確定器從在關注區域內存在的所述像素中確定所述典型高值像素,并且所述關注區域是根據所要成像的所述身體部位在所述圖像捕獲領域中預定的。
7.根據權利要求6所述的放射線成像設備,其中放射線吸收率在所述指標區域中比在所述關注區域中高。
8.根據權利要求2所述的放射線成像設備,其中所述像素包括專用于所述射線照相圖像的檢測的多個通常像素,和遍布所述圖像捕獲領域地分布以檢測所述放射線劑量的多個檢測像素。
9.根據權利要求8所述的放射線成像設備,進一步包括:
像素值估計器,所述像素值估計器用于基于靠近將被估計的所述通常像素的所述檢測像素的所述像素值估計所述通常像素的所述像素值;并且
所述像素確定器基于所述估計的像素值確定所述典型低值像素和所述典型高值像素。
10.根據權利要求9所述的放射線成像設備,其中
所述圖像檢測器具有多個像素組,各個像素組包括一個或者多個所述通常像素和一個或者多個所述檢測像素,并且所述檢測像素在相互鄰接的所述像素組之間被不同地配置;并且
所述像素值估計器基于屬于第一像素組的所述檢測像素的所述像素值和屬于與所述第一像素組鄰接的第二像素組的所述檢測像素的所述像素值估計所述第一像素組的所述通常像素的所述像素值。
11.根據權利要求8所述的放射線成像設備,其中所述像素確定器從所述檢測像素中確定所述典型低值像素和所述典型高值像素。
12.根據權利要求8所述的放射線成像設備,其中
被電連接到所述像素的信號線在所述圖像捕獲領域中布線以輸出所述像素值;并且
所述檢測像素直接地或者通過開關元件被連接到所述信號線。
13.根據權利要求8所述的放射線成像設備,其中所述像素包括由用作所述通常像素的第一子像素和用作所述檢測像素的第二子像素構成的復合像素。
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