[發明專利]制造設備、制造方法、光學元件、顯示裝置和電子設備

有效

• 申請號: 201310037633.5
• 申請日: 2013-01-31
• 公開（公告）號: CN103323979B
• 公開（公告）日: 2017-07-07
• 發明（設計）人: 小糸健夫;高間大輔
• 申請（專利權）人: 株式會社日本顯示器西
• 主分類號: G02F1/1339
• 分類號: G02F1/1339;G02F1/1333;G02F1/1337;G02F1/29;G02B27/22
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 焦玉恒

1.一種制造液晶透鏡的方法，包括：

提供第一基板和第二基板，其配置于進行圖像顯示的顯示單元的顯示表面側，具有大于或等于10μm的間隙并相對配置；

提供透鏡單元，其設置于該第一基板和該第二基板之間，并選擇性地改變從顯示單元發射的光線的通過狀態；

向該第一基板和該第二基板的至少之一提供結構元件，該結構元件在該第一基板和該第二基板之間提供預定的間隙；

在該第一基板和該第二基板的每一個上形成取向膜；以及

使該第一基板和該第二基板的每一個上形成的該取向膜經受摩擦工藝，

其中該結構元件在形成該取向膜后且在執行該摩擦工藝之前形成，

其中該摩擦工藝通過離子束取向進行。

2.根據權利要求1所述的制造液晶透鏡的方法，

其中在該第一基板上的該取向膜經受該摩擦工藝前，該結構元件形成在該第一基板上的該取向膜上。

3.根據權利要求1所述的制造液晶透鏡的方法，

其中該結構元件提供到該第一基板和該第二基板的每一個。

4.根據權利要求3所述的制造液晶透鏡的方法，

其中提供到該第一基板的該結構元件的直徑大于提供到該第二基板的該結構元件的直徑。

5.根據權利要求3所述的制造液晶透鏡的方法，

其中該第一基板上的該取向膜上的該結構元件在該第一基板上的該取向膜經受該摩擦工藝后形成，并且

其中該第二基板上的該取向膜上的該結構元件在該第二基板上的該取向膜經受該摩擦工藝前形成。

6.一種制造液晶透鏡的設備，該制造液晶透鏡的設備執行：

提供第一基板和第二基板，其配置于進行圖像顯示的顯示單元的顯示表面側，具有大于或等于10μm的間隙并相對配置；

提供透鏡單元，其設置于該第一基板和該第二基板之間，并選擇性地改變從顯示單元發射的光線的通過狀態；

結構元件形成工序，向該第一基板和該第二基板的至少之一提供結構元件，該結構元件在該第一基板和該第二基板之間提供預定的間隙；

取向膜形成工序，在該第一基板和該第二基板的每一個上形成取向膜；以及

摩擦工序，使該第一基板和該第二基板的每一個上形成的該取向膜經受摩擦工藝，

其中該結構元件在形成該取向膜后且在執行該摩擦工藝之前形成，

其中該摩擦工藝通過離子束取向進行。

7.一種液晶透鏡，包括：

第一基板和第二基板，其配置于進行圖像顯示的顯示單元的顯示表面側，具有大于或等于10μm的間隙并相對配置；

透鏡單元，其設置于該第一基板和該第二基板之間，并選擇性地改變從顯示單元發射的光線的通過狀態；

其中該液晶透鏡是一種光學元件，其包括：

結構元件，在該第一基板和該第二基板之間提供預定的間隙，并且該結構元件提供到該第一基板和該第二基板的至少之一；以及

取向膜，形成在該第一基板和該第二基板的每一個上，該取向膜經受摩擦工藝，

其中該結構元件在形成該取向膜后且在執行該摩擦工藝之前形成，

其中該摩擦工藝通過離子束取向進行。

8.一種顯示裝置，包括：

顯示單元，顯示圖像；以及

液晶透鏡，其具備第一基板和第二基板，面對該顯示單元的顯示表面側相對配置，具有大于或等于10μm的間隙并相對配置；

透鏡單元，設置于該第一基板和該第二基板之間，并且選擇性地改變從該顯示單元發射的光線通過該透鏡單元的狀態，

其中該透鏡單元是一種光學元件，其包括：

結構元件，在該第一基板和該第二基板之間提供預定的間隙，并且該結構元件提供到該第一基板和該第二基板的至少之一，以及

取向膜，形成在該第一基板和該第二基板的每一個上，該取向膜經受摩擦工藝，

其中該結構元件在形成該取向膜后且在執行該摩擦工藝之前形成，

其中該摩擦工藝通過離子束取向進行。

9.一種電子設備，包括：

顯示單元，顯示圖像；以及

液晶透鏡，其具備

第一基板和第二基板，面對該顯示單元的顯示表面側相對配置，具有大于或等于10μm的間隙并相對配置；

透鏡單元，設置于該第一基板和該第二基板之間，并且選擇性地改變從該顯示單元發射的光線通過該透鏡單元的狀態，

其中該透鏡單元是一種光學元件，其包括：

結構元件，在該第一基板和該第二基板之間提供預定的間隙，并且該結構元件提供到該第一基板和該第二基板的至少之一，以及

取向膜，形成在該第一基板和該第二基板的每一個上，該取向膜經受摩擦工藝，

其中該結構元件在形成該取向膜后且在執行該摩擦工藝之前形成，

其中該摩擦工藝通過離子束取向進行。