[發(fā)明專利]刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310036565.0
• 申請日: 2013-01-29
• 公開（公告）號: CN103088412A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周永君;徐小明;丁云鑫;毛棋斌
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州士蘭明芯科技有限公司
• 主分類號: C30B25/02
• 分類號: C30B25/02;H01L21/67
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 浦易文

1.一種刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），所述反應(yīng)爐包括反應(yīng)室組件（100）、加熱組件（200）以及冷卻組件，其特征在于，

所述反應(yīng)室組件（100）包括反應(yīng)罩（110），所述反應(yīng)罩（110）上側(cè)設(shè)有通氣管（111），反應(yīng)氣體通過所述通氣管（111）輸入到所述反應(yīng)罩（110）內(nèi)部；

所述加熱組件（200）包括紅外燈管組件（210），所述紅外燈管組件（210）設(shè)置在所述反應(yīng)罩（110）外側(cè)；

所述冷卻組件包圍所述加熱組件（200）設(shè)置。

2.如權(quán)利要求1所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，所述加熱組件（200）還包括反射板組件（220），所述反射板組件（220）設(shè)置在所述反應(yīng)罩（110）外側(cè)。

3.如權(quán)利要求2所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，所述紅外燈管組件（210）包括多個(gè)紅外燈管（212），所述多個(gè)紅外燈管（212）構(gòu)造成并聯(lián)回路以進(jìn)行分區(qū)溫度控制。

4.如權(quán)利要求1所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，冷卻組件包括循環(huán)風(fēng)冷卻系統(tǒng)（310）和水冷卻系統(tǒng)（350），所述循環(huán)風(fēng)冷卻系統(tǒng)（310）構(gòu)造成通入氣流進(jìn)行冷卻，所述水冷卻系統(tǒng)（350）構(gòu)造成具有冷卻水管（353），所述冷卻水管（353）通入冷卻水進(jìn)行冷卻。

5.如權(quán)利要求4所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，所述加熱組件（200）包括反射板，所述反射板設(shè)置在反應(yīng)罩（110）的上側(cè)和四周側(cè)，所述反射板的外側(cè)固定有冷卻板（352），所述冷卻水管（353）盤設(shè)在冷卻板（352）的外側(cè)。

6.如權(quán)利要求4所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，所述循環(huán)風(fēng)冷卻系統(tǒng)（310）包括：位于反應(yīng)室組件（100）上方的頂部集氣槽（312）；位于反應(yīng)室組件（100）下方的底部集氣槽（314）；連通在頂部集氣槽（312）和底部集氣槽（314）之間的風(fēng)腔，風(fēng)腔位于反應(yīng)室組件（100）以及加熱組件（200）四周。

7.如權(quán)利要求6所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，所述循環(huán)風(fēng)冷卻系統(tǒng)（310）還包括：換熱器，所述換熱器被連接到所述底部集氣槽（314）的下游；以及串接在循環(huán)風(fēng)冷卻系統(tǒng)（310）中的、使氣流循環(huán)運(yùn)動的鼓風(fēng)機(jī)。

8.如權(quán)利要求1所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，反應(yīng)室組件（100）還包括：反應(yīng)罩固定座（120），反應(yīng)罩固定座（120）固定支承反應(yīng)罩（110）；以及可開啟的底蓋（130），該底蓋（130）設(shè)有連通位于所述反應(yīng)室組件（100）內(nèi)的、容納石墨盤（600）或外延襯底片的反應(yīng)腔的尾氣通道（132），并且底蓋（130）密封連接到反應(yīng)罩固定座（120）上。

9.如權(quán)利要求8所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，冷卻組件包括循環(huán)風(fēng)冷卻系統(tǒng)（310），所述循環(huán)風(fēng)冷卻系統(tǒng)（310）構(gòu)造成通入氣流對所述反應(yīng)爐內(nèi)的部件進(jìn)行冷卻，所述循環(huán)風(fēng)冷卻系統(tǒng)（310）包括位于反應(yīng)室組件（100）上方的頂部集氣槽（312）；位于反應(yīng)室組件（100）下方的底部集氣槽（314）；連通在頂部集氣槽（312）和底部集氣槽（314）之間的風(fēng)腔，風(fēng)腔位于反應(yīng)室組件（100）以及加熱組件（200）四周,

所述底蓋（130）設(shè)有壓力檢測口，通入所述反應(yīng)罩（110）內(nèi)的反應(yīng)氣體的流量被控制成使所述反應(yīng)腔的內(nèi)壓力與所述風(fēng)腔內(nèi)的壓力大致相等。

10.如前述任一項(xiàng)的權(quán)利要求所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，所述反應(yīng)罩由石英材料制成。

11.如權(quán)利要求1所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，在反應(yīng)爐的運(yùn)行過程中，反應(yīng)氣體通過所述通氣管（111）通入，所述反應(yīng)氣體包括氯氣和氣體氯化合物中的一種或多種。

12.如權(quán)利要求1或11所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，所述反應(yīng)爐內(nèi)放置石墨盤或外延襯底片。

13.如權(quán)利要求1或11所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，所述反應(yīng)爐內(nèi)以豎直狀態(tài)放置一片或兩片石墨盤。

14.如權(quán)利要求1所述的刻蝕烘烤設(shè)備的反應(yīng)爐（10），其特征在于，所述反應(yīng)爐構(gòu)造成將所述反應(yīng)爐的反應(yīng)過程中的爐內(nèi)溫度控制在500°Ｃ-800°Ｃ的范圍內(nèi)。