[發明專利]一種具有復合勢壘的氮化鎵基發光二極管有效
| 申請號: | 201310035913.2 | 申請日: | 2013-01-30 |
| 公開(公告)號: | CN103151435A | 公開(公告)日: | 2013-06-12 |
| 發明(設計)人: | 張雄;許潔;崔一平 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | H01L33/06 | 分類號: | H01L33/06;H01L33/32 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 210096*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 復合 氮化 發光二極管 | ||
技術領域
本發明屬于半導體照明領域,涉及一種具有復合勢壘的氮化鎵基LED。
背景技術
GaN基LED已經進入市場并取得很大進展,但是芯片出光效率低下問題仍未得到很好解決。原因在于:III-V族氮化物發光元件中存在著極化效應,包括自發極化和壓電極化。自發極化是纖鋅礦結構在[0001]方向的不對稱引起的,而壓電極化產生的原因是在異質結界面處,由于不同材料之間彼此晶格不匹配產生應力,使得陰離子和陽離子的排列發生移動,產生出極化電荷的壓電效應所致。由于極化效應所引起的內建極化電場是強電場,在量子阱內部引起嚴重的能帶彎曲變形,使電子和空穴的波函數在空間上有所分離,從而降低了量子阱內的載流子自發輻射速率,使得器件的內量子效率低下,同時也限制了發光效率。
目前主流的氮化鎵基LED一般均采用InGaN/GaN多量子阱作為發光有源區,其中的極化效應是必須重視的。采用四元氮化物AlInGaN可根據需要引入適當的張應變和壓應變,以達到減小極化效應的目的。AlN的自發極化常數最大,InN次之,GaN最小。按照Fiorentini等人的理論,將某種材料的自發極化強度與壓電極化強度相加,得到的就是其總極化強度。
三元氮化物材料的自發極化強度Psp與組分的關系可用下式表示:
Psp(AlxGa1-xN)=-0.090x-0.034(1-x)+0.019x(1-x)
(1)
Psp(InxGa1-xN)=-0.042x-0.034(1-x)+0.038x(1-x)
(2)
Psp(AlxIn1-xN)=-0.090x-0.042(1-x)+0.071x(1-x)
(3)
四元氮化物AlInGaN的自發極化強度為:
Pps(AlxInyGa1-x-yN)=Pps(AlN)x+Pps(InN)y+Pps(GaN)(1-x-y),
(4)
而AlInGaN、AlInN、InGaN和AlGaN的壓電極化強度Ppz可利用下列公式算出:
Ppz(AlxInyGa1-x-yN)=Ppz(AlN)x+Ppz(InN)y+Ppz(GaN)(1-x-y),
(5)
其中
Ppz(AlN)=-1.808□+5.624□2當□<0,
(6)
Ppz(AlN)=-1.808□-7.888□2當□>0,
(7)
Ppz(GaN)=-0.918□+9.541□2,
(8)
Ppz(InN)=-1.373□+7.559□2,
(9)
Ptotal=Pps+Ppz
(10)
其中□是晶格失配度。當氮化銦鎵勢阱層的In組分確定時,我們可以根據上述公式得到合適的復合勢壘層InAlGaN與InGaN界面處的In,Al組分,使得InGaN層和AlInGaN層的極化強度相匹配,由此可減小InGaN量子阱中的極化效應。
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