[發明專利]一種用于探測光強度的多層膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201310034539.4
• 申請日: 2013-01-29
• 公開（公告）號: CN103078059A
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發明（設計）人: 劉向;薛鈺芝;林紀宇
• 申請（專利權）人: 大連交通大學
• 主分類號: H01L51/44
• 分類號: H01L51/44;H01L51/46;H01L51/48
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司 21212
• 代理人: 趙淑梅;李洪福

1.一種用于探測光強度的多層膜，其特征在于：在ITO玻璃基底層（1）上設有有機薄膜層Ⅰ（2），所述有機薄膜層Ⅰ（2）上設有有機薄膜層Ⅱ（3），在所述有機薄膜層Ⅱ（3）上設有金屬薄膜電極（4）。

2.根據權利要求1所述的一種用于探測光強度的多層膜，其特征在于：所述有機薄膜層Ⅰ（2）是由并五苯和酞菁銅的混合材料制成的，并五苯和酞菁銅的摩爾比為1:9-1:4，薄膜的厚度為35nm-65nm。

3.根據權利要求1所述的一種用于探測光強度的多層膜，其特征在于：所述有機薄膜層Ⅱ（3）為N型有機薄膜，厚度為25nm-40nm。

4.根據權利要求3所述的一種用于探測光強度的多層膜，其特征在于：所述N型有機薄膜為富勒烯。

5.根據權利要求1所述的一種用于探測光強度的多層膜，其特征在于：所述金屬薄膜電極（4）的材料為金、鉑、銀。

6.一種權利要求1所述的用于探測光強度的多層膜的制備方法，其特征在于包括如下步驟：

①在ITO玻璃基底層（1）上采用真空蒸發、旋涂或者噴墨打印的方法制備一層有機薄膜層Ⅰ（2），厚度為35nm-65nm；

②在所述有機薄膜層Ⅰ（2）上采用真空蒸發、旋涂或者噴墨打印的方法制備一層有機薄膜層Ⅱ（3），厚度為25nm-40nm；

③在所述有機薄膜層Ⅱ（3）上采用真空蒸鍍一層金屬金、鉑或銀薄膜層作為金屬薄膜電極（4）。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于：所述有機薄膜層Ⅰ（2）的材料是由并五苯和酞菁銅混合制成的。

8.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于：所述步驟①中采用真空蒸發的方法時，襯底溫度為60℃-150℃。

9.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于：所述有機薄膜層Ⅱ（3）為N型有機薄膜，所述N型有機薄膜為富勒烯。

10.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于：所述步驟②中采用真空蒸發的方法時，襯底溫度為40℃-90℃。