[發明專利]一種含鍺元素的摻雜石墨烯的制備方法有效
| 申請號: | 201310034451.2 | 申請日: | 2013-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN103964417B | 公開(公告)日: | 2018-03-16 |
| 發明(設計)人: | 林朝暉 | 申請(專利權)人: | 福建省輝銳材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C01B32/186 | 分類號: | C01B32/186 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 362000 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 元素 摻雜 石墨 制備 方法 | ||
1.一種含鍺元素的摻雜石墨烯的制備方法,其特征在于,采用化學氣相沉積法制備含鍺元素的摻雜石墨烯,所述方法包括以下步驟:將催化基底放入真空的反應器中,然后向所述反應器中通入含有碳元素和鍺烷的化合物,制得含有鍺元素的摻雜石墨烯;
所述向所述反應器中通入含有碳元素和鍺元素的化合物,得到含有鍺元素的摻雜石墨烯包括步驟:通入含碳元素的化合物,使得含碳元素的化合物在銅表面裂解并生長石墨烯;改變含碳元素的化合物流量,同時通入含鍺烷的化合物,制得含鍺元素的摻雜石墨烯;所述含碳元素的化合物為甲烷、具體為通入1sccm甲烷30秒,使得碳源在催化基底表面裂解并生長石墨烯,改變甲烷流量至3sccm,同時通入0.1~0.5sccm鍺烷,保持在1000度10分鐘,制得含鍺元素的摻雜石墨烯。
2.如權利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括電拋光處理催化基底表面。
3.如權利要求2所述的方法,其特征在于,所述催化基底為銅片,所述電拋光處理催化基底步驟包括:配置電拋光溶液;將作為陽極的目標銅片與作為陰極的銅片置入電拋光溶液中,通電且保持電壓穩定在1.5~6伏特1分鐘;將目標銅片從電拋光溶液中取出,用去離子水清洗干凈,再用無水乙醇沖洗,最后氮氣吹干。
4.如權利要求3所述的方法,其特征在于,所述電拋光溶液為去離子水,磷酸,乙醇,異丙醇,尿素配置而成的混合溶液。
5.如權利要求3所述的方法,其特征在于,所述作為陰極的銅片厚度為6~200μm。
6.如權利要求1所述的方法,其特征在于,所述含有碳元素的化合物為一氧化碳、乙炔、乙醇、苯、甲苯、環己烷中的任一種替代權利要求1中的甲烷。
7.如權利要求1所述的方法,其特征在于,所述反應器為真空管式爐。
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