[發(fā)明專利]一種陣列基板、顯示面板及裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310034119.6 | 申請日: | 2013-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN103091922A | 公開(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 曲連杰;郭建;王德帥;史大為 | 申請(專利權(quán))人: | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;H01L23/60;H05F3/04 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陣列 顯示 面板 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種陣列基板、顯示面板及裝置。
背景技術(shù)
無論在日常生活中還是工業(yè)生產(chǎn)中,靜電都和我們關(guān)系很大,在電子行業(yè)的生產(chǎn)中,輕微的靜電都會使得電子器件失效,極大地影響生產(chǎn)效率和良品率,甚至使得生產(chǎn)不能順利進行。
電子器件生產(chǎn)中的靜電防護一方面可以通過對生產(chǎn)環(huán)境的溫度,濕度等條件的控制,減少靜電的發(fā)生,還可以通過對器件本身的靜電防護(ESD,Electro-Static?Discharge)裝置降低靜電對電子器件的影響。為了防止在生產(chǎn)和存儲過程中產(chǎn)生靜電對顯示面板產(chǎn)生較大影響,通常在如圖1所示的顯示面板1的周邊設置有圓環(huán)形陰影部分所示的靜電防護單元2。若圖1所示靜電防護單元2為單層金屬靜電防護單元,將其中部分結(jié)構(gòu)4放大后的圖案如圖2(a)或者圖2(b)所示,從圖2(a)可以看出,所述靜電防護單元2中包括金屬層M和放電單元D1,從圖2(b)中可以看出所述靜電防護單元2中包括金屬層M和放電單元D2,并且放電單元D1和D2的放電能力最強的主要放電尖端都指向顯示面板的內(nèi)部,即顯示區(qū)域3,通過尖端和空氣之間放電,防止電荷積累。
若圖1中所示靜電防護單元2為多層金屬靜電防護單元單元,將其部分放大后的圖案如圖3(a)或者圖3(b)所示,所述多層金屬靜電防護單元一般采用金屬層之間放電來形成,從圖3(a)和圖3(b)中還可以看出,所述靜電防護單元中2包括兩個金屬層M,所述金屬層上設置有放電單元D1或放電單元D2,主要放電點位于兩層金屬接觸最近的點,通過尖端在兩層之間發(fā)生放電,從而有效的將電荷中和,降低靜電的影響。
但是,上述所有構(gòu)型的放電單元,容易造成電荷的分散分布,使得電荷不能有效釋放,從而增加電荷積累的密度,增大靜電的危害。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供了一種陣列基板、顯示面板及裝置,用以解決現(xiàn)有技術(shù)中靜電防護圖案放電能力較低的問題,同時提高顯示面板的良率和抗靜電能力。
本發(fā)明實施例提供了一種陣列基板,該陣列基板周邊區(qū)域上設置有一圈靜電防護單元,所述靜電防護單元包括金屬層,及金屬層的一側(cè)設置的一個或多個放電單元,其中,至少一個放電單元包括至少5個尖端,包括放電尖端和非放電尖端;所述放電單元包括至少1個放電尖端,并且,所述放電單元包括至少一個與金屬層共同構(gòu)成的尖端,且通過所述尖端的放電單元的側(cè)面與金屬層的側(cè)面之間的夾角大于90°。
本發(fā)明實施例提供了一種顯示面板,該顯示面板所述的陣列基板。
本發(fā)明實施例提供了一種顯示裝置,該顯示裝置包括所述的顯示面板。
本發(fā)明實施例提供的陣列基板,該陣列基板上設置有靜電防護單元,所述靜電防護單元包括金屬層,該金屬層的一側(cè)設置有一個或多個放電單元;其中,至少一個放電單元包括至少5個尖端,包括放電尖端和非放電尖端;所述放電單元包括至少1個放電尖端,并且,所述放電單元包括至少一個與金屬層共同構(gòu)成的尖端,且通過所述尖端的放電單元的側(cè)面與金屬層的側(cè)面之間的夾角大于90°,放電尖端與金屬層之間形成多個比較平緩的凹形尖端,減少了電荷在除主要放電尖端外的其它部位的聚集,促使電荷更多的聚集在主要放電尖端上,從而增強了陣列基板的放電能力。
附圖說明
圖1為具有靜電防護單元的顯示面板的結(jié)構(gòu)俯視圖;
圖2(a)為現(xiàn)有技術(shù)中一種單層金屬靜電防護單元的結(jié)構(gòu)俯視圖;
圖2(b)為現(xiàn)有技術(shù)中另一種單層金屬靜電防護單元的結(jié)構(gòu)俯視圖;
圖3(a)為現(xiàn)有技術(shù)中一種多層金屬靜電防護單元的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3(b)為現(xiàn)有技術(shù)中另一種多層金屬靜電防護單元的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為本發(fā)明實施例一提供的一種單層金屬靜電防護單元的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為本發(fā)明實施例二提供的一種單層金屬靜電防護單元的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖6為本發(fā)明實施例三提供的一種多層金屬靜電防護單元的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖7為本發(fā)明實施例四提供的一種多層金屬靜電防護單元的結(jié)構(gòu)示意;
圖8為本發(fā)明實施例五提供的一種多層金屬靜電防護單元的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
本發(fā)明實施例提供了一種陣列基板、顯示面板及裝置,用以解決現(xiàn)有技術(shù)中靜電防護單元放電能力較低的問題,同時提高顯示面板的良率和抗靜電能力。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





