[發(fā)明專利]基于受激輻射的邁克爾遜熒光干涉顯微測量裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310033080.6 | 申請日： | 2013-01-29 |
| 公開（公告）號： | CN103115582A | 公開（公告）日： | 2013-05-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉儉;譚久彬;王偉波;張拓 | 申請（專利權(quán)）人： | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號： | G01B11/24 | 分類號： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 哈爾濱市偉晨專利代理事務(wù)所(普通合伙) 23209 | 代理人： | 張偉 |
| 地址： | 150001 黑龍*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基于 輻射 邁克 熒光 干涉 顯微 測量 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.基于受激輻射的邁克爾遜熒光干涉顯微測量裝置，其特征在于包括激光器（1）、沿光線傳播方向配置在激光器（1）直射光路上的會聚物鏡（2）、第一針孔（3）、準(zhǔn)直擴(kuò)束物鏡（4）和分光棱鏡（5）；配置在分光棱鏡（5）反射光路上的聚焦物鏡（6）、位移驅(qū)動器（7）、參考鏡（8）、分光棱鏡（9）和被測件（10）；配置在分光棱鏡（5）透射光路上的成像會聚物鏡（11）、窄帶濾光片（12）、第二針孔（13）、探測器（14）；所述的被測件（10）和參考鏡（8）表面采用真空蒸發(fā)鍍膜法進(jìn)行鍍膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于受激輻射的邁克爾遜熒光干涉顯微測量裝置，其特征在于所述的聚焦物鏡（6）的數(shù)值孔徑小于0.2。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于受激輻射的邁克爾遜熒光干涉顯微測量裝置，其特征在于所述的窄帶濾光片（12）的中心波長為610nm，帶寬為50nm。
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