[發(fā)明專利]一種高耐磨的金剛石砂輪修整筆的制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310032791.1
• 申請(qǐng)日: 2013-01-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103128662A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 岳文;顏剛;王成彪;吳宗毅;付志強(qiáng);彭志堅(jiān)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)地質(zhì)大學(xué)(北京)
• 主分類號(hào): B24B53/12
• 分類號(hào): B24B53/12;B22F3/12
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種高耐磨的金剛石砂輪修整筆及其制備方法，其特征在于包括以下步驟：?

a、對(duì)PCD進(jìn)行表面表面預(yù)處理：將PCD置于堿性金屬清洗液煮沸進(jìn)行表面除油，再將PCD置于盛有堿性金屬清洗液的超聲清洗機(jī)中超聲處理，然后將清洗后的PCD放入純乙醇溶液脫水后干燥處理；?

b、將PCD放入多弧離子鍍膜機(jī)中，抽真空至6.5×10^-3Pa或以上，加負(fù)偏壓600V；啟動(dòng)磁過(guò)濾單弧鍍靶電流60～70A，電壓18～22V；用高純氬轟擊對(duì)PCD進(jìn)行離子清洗，時(shí)間為5～25min；?

c、將經(jīng)過(guò)處理的PCD按照預(yù)先設(shè)定的鍍膜制度覆鍍TiN、TiCN、CrN、TiAlN或ZrN具有致密膜層、高膜基結(jié)合力的耐熱耐磨單一或復(fù)合薄膜；?

d、將得到的含膜PCD進(jìn)行適當(dāng)?shù)膾伖狻⑿弈ィ?

e、將得到的含膜PCD釬焊至筆桿上。?

2.根據(jù)權(quán)利1所述的一種高耐磨的金剛石砂輪修整筆及其制備方法，其特征在于所述鍍膜機(jī)可采用AIP-01型多弧離子鍍膜機(jī)，鍍膜機(jī)內(nèi)附加磁過(guò)濾裝置。高頻銀基釬焊可采用HFP-20型釬焊機(jī)。?

3.根據(jù)權(quán)利1所述的一種高耐磨的金剛石砂輪修整筆及其制備方法，其特征在于所述PCD、鍍膜機(jī)、磁過(guò)濾裝置以及高頻釬焊機(jī)均可從市場(chǎng)購(gòu)得。?

4.根據(jù)權(quán)利1所述的一種高耐磨的金剛石砂輪修整筆及其制備方法，其特征在于所述鍍膜中鍍TiN、CrN、TiAlN或ZrN膜的工藝為：將基體偏壓調(diào)控在-100～-400V、占空比控制在20％～30％；開(kāi)啟磁過(guò)濾器，調(diào)整磁過(guò)濾器控制電源，其電壓為18～24V，電流為4.0～5.0A，保證磁場(chǎng)強(qiáng)度；將氮?dú)饬髁空{(diào)整為40～100SCCM(Standard?Curbic?Centimiter?Per?Minute每分鐘流過(guò)的標(biāo)準(zhǔn)毫升數(shù))；工件溫度控制在200～280℃；然后將磁過(guò)濾單弧鍍靶的電流調(diào)整為60～100A，電壓為18～60V，覆鍍TiN、CrN、TiAlN或ZrN薄膜，鍍膜時(shí)間為40～120min；鍍TiN膜使用的靶材為鈦靶(覆鍍TiN薄膜)；鍍CrN膜使用的靶材為鉻靶(鍍覆CrN薄膜)；鍍TiAlN膜使用的靶材為鈦鋁靶(鍍覆TiAlN薄膜)；鍍ZrN膜使用的靶材為鋯靶(鍍覆ZrN薄膜)。?

5.根據(jù)權(quán)利1所述的一種高耐磨的金剛石砂輪修整筆及其制備方法，其特征在于所述鍍膜中鍍TiNC膜的工藝為：將基體偏壓調(diào)控在-200～-400V、占空比控制在20％～30％；開(kāi)啟磁過(guò)濾器，調(diào)整磁過(guò)濾器控制電源，其電壓為18～24V，電流為4.0～5.0A，保證磁場(chǎng)強(qiáng)度；通入C₂H₂+N₂作為反應(yīng)氣體(N₂/C₂H₂＝1/4)，分壓控制在4×10^-3Pa，PCD溫度保持在230～260℃；然后將磁過(guò)濾單弧鍍靶的電流調(diào)整為60～80A，電壓為40～50V，覆鍍TiCN薄膜，鍍膜時(shí)間為40～80min。?

6.根據(jù)權(quán)利1所述的一種高耐磨的金剛石砂輪修整筆及其制備方法，其特征在于所述釬焊方式采用高頻低溫銀基釬焊，溫度約為700℃，避免了金剛石的高溫?zé)釗p傷。?