[發明專利]加熱裝置和用于發生化學反應的設備

有效

• 申請號: 201310032026.X
• 申請日: 2013-01-28
• 公開（公告）號: CN103962079B
• 公開（公告）日: 2017-11-17
• 發明（設計）人: 張魯凝;李明
• 申請（專利權）人: 西門子公司
• 主分類號: B01J19/12
• 分類號: B01J19/12
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司11240
• 代理人: 李慧

1.一種加熱裝置，其特征在于，該裝置包括：

光源(1)，其用于產生包括紅外線的光束，以加熱多個待加熱的區域(8)，和

光線引導部件(2)，用于使所述光源(1)產生的光束變成多個光斑，分別照射到所述的多個待加熱的區域(8)，所述光線引導部件(2)包括微機電系統或者二維光柵(3)，

其中所述光源(1)為兩個，一個光源能夠產生第一波長的光，另一個光源能夠產生第二波長的光，在所述兩個光源(1)和光線引導部件(2)之間還設有二向色鏡(7)，所述二向色鏡(7)使所述第一波長的光和所述第二波長的光耦合成一束。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述光源(1)能夠產生包括紅外線的激光。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中所述二維光柵(3)用于使所述光源(1)產生的光束發生透射形成多個光斑，所述二維光柵(3)的面內角可調。

4.根據權利要求3所述的裝置，其中所述二維光柵(3)為上下設置的多個二維光柵，用于改變透射光斑的數量。

5.根據權利要求3所述的裝置，其中在所述光線引導部件(2)和區域(8)之間還設有漸變濾色片(4)，該漸變濾色片(4)用于控制照射到待加熱的區域(8)上的光的強度。

6.根據權利要求1所述的裝置，其中所述微機電系統包括數字微鏡器件(5)或光柵光閥(6)及其控制器，所述控制器用于控制數字微鏡器件(5)或光柵光閥(6)，從而調整照射到待加熱的區域(8)上的光的方向和強度。

7.根據權利要求6所述的裝置，其中所述數字微鏡器件(5)和光柵光閥(6)上覆有紅外線反射膜。

8.一種用于發生化學反應的設備，其特征在于該設備包括：

如權利要求1-7中任一項所述的加熱裝置，和

設置在所述加熱裝置一側的基體(9)，所述基體(9)上設有多個容納反應樣品的區域(8)。

9.根據權利要求8所述的設備，其中所述區域(8)中設有多個孔，所述孔的側壁為階梯形結構，用于防止光發生全反射。