[發(fā)明專利]藍(lán)寶石紅外窗口用氧化釔/二氧化硅增透保護(hù)膜及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310031456.X
• 申請(qǐng)日: 2013-01-28
• 公開（公告）號(hào): CN103287010A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 汪桂根;韓杰才;張化宇;駱琳;嚴(yán)帥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 哈爾濱工業(yè)大學(xué)深圳研究生院
• 主分類號(hào): B32B9/04
• 分類號(hào): B32B9/04;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/35
• 代理公司: 深圳市科吉華烽知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44248
• 代理人: 胡吉科;孫偉

1.一種藍(lán)寶石紅外窗口用氧化釔/二氧化硅增透保護(hù)膜，其特征在于：包括依次沉積的氧化釔層和二氧化硅層，所述氧化釔層的厚度為200~750nm，所述二氧化硅層的厚度為600~900nm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石紅外窗口用氧化釔/二氧化硅增透保護(hù)膜，其特征在于：所述氧化釔層的厚度為350~600nm，所述二氧化硅層的厚度為700~800nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石紅外窗口用氧化釔/二氧化硅增透保護(hù)膜，其特征在于：所述氧化釔層的厚度為500nm，所述二氧化硅層的厚度為700nm。

4.一種如權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石紅外窗口用氧化釔/二氧化硅增透保護(hù)膜的制備方法，其特征在于：包括如下步驟：

A）將藍(lán)寶石襯底置于磁控濺射腔室的樣品基片臺(tái)上，對(duì)真空腔室進(jìn)行抽真空，加熱基片樣品臺(tái)至300～500℃，再向腔室通入氬氣，并打開射頻電源，對(duì)金屬釔靶施加100~250W的濺射功率啟輝，進(jìn)行預(yù)濺射，以便去除金屬釔靶材表面的氧化層；

B）預(yù)濺射后同時(shí)通入氬氣和氧氣，并打開基片擋板，對(duì)藍(lán)寶石襯底進(jìn)行表面鍍膜，沉積150~600分鐘后，形成Y₂O₃層，關(guān)閉基片擋板，關(guān)閉射頻電源和氬氣源；

C）旋轉(zhuǎn)樣品基片臺(tái)，使藍(lán)寶石襯底向下正對(duì)相應(yīng)的硅靶，向真空腔室再次通入氬氣，并打開射頻電源，對(duì)硅靶施加100~250W的濺射功率啟輝，進(jìn)行預(yù)濺射，以便去除硅靶材表面的氧化層；

D）預(yù)濺射后同時(shí)通入氬氣和氧氣，打開基體擋板，對(duì)藍(lán)寶石襯底再次進(jìn)行表面鍍膜，沉積60~90分鐘后，形成SiO₂外層，從而制得藍(lán)寶石紅外窗口用Y₂O₃/SiO₂增透保護(hù)膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的藍(lán)寶石紅外窗口用氧化釔/二氧化硅增透保護(hù)膜的制備方法，其特征在于：所述抽真空的真空度為4.0×10^-4~2.0×10^-4?Pa。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的藍(lán)寶石紅外窗口用氧化釔/二氧化硅增透保護(hù)膜的制備方法，其特征在于：所述步驟A和步驟C中，氬氣的流量控制在10~50mL/min，腔室內(nèi)壓強(qiáng)為3~5Pa。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的藍(lán)寶石紅外窗口用氧化釔/二氧化硅增透保護(hù)膜的制備方法，其特征在于：所述步驟B中，氬氣的流量控制在10~50mL/min，氧氣的流量為10~20mL/min，腔室內(nèi)的壓強(qiáng)為5~15Pa。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的藍(lán)寶石紅外窗口用氧化釔/二氧化硅增透保護(hù)膜的制備方法，其特征在于：所述步驟D中，氬氣的流量控制在10~50mL/min，氧氣的流量為10~20mL/min，腔室內(nèi)的壓強(qiáng)為0.5~2Pa。

9.根據(jù)權(quán)利要求4至8中任一項(xiàng)所述的藍(lán)寶石紅外窗口用氧化釔/二氧化硅增透保護(hù)膜的制備方法，其特征在于：還包括步驟：E）將所述藍(lán)寶石紅外窗口用Y₂O₃/SiO₂增透保護(hù)膜在濺射后關(guān)閉擋板、射頻電源和氬氣源，在氧氣氣氛中原位保溫60~120分鐘。