[發明專利]用于皮膚的EMR治療處理的方法和裝置

無效

• 申請號: 201310031062.4
• 申請日: 2001-12-27
• 公開（公告）號: CN103251453A
• 公開（公告）日: 2013-08-21
• 發明（設計）人: 格雷戈里·B·阿特舒勒;R·羅克斯·安德森;迪特·曼斯坦恩;塞格伊·B·伯爾魯陳斯基;安德列·V·埃若費瓦
• 申請（專利權）人: 帕洛瑪醫療技術有限公司;通用醫院有限公司
• 主分類號: A61B18/18
• 分類號: A61B18/18;A61B18/20;A61N5/06
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 過曉東

1.一種用來在患者皮膚的預定的體積部分上完成處理的裝置，該裝置包括：

輻射源；以及

應用來自輻射源的輻射的光學系統，所述的光學系統包括光學元件的陣列，其中至少多個元件被配置為同時應用來自輻射源的輻射以在所述的體積部分內創建多個三維照射處理部分，所述光學元件陣列被配置以至于多個照射處理部分彼此間隔開。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述的輻射源被配置用于提供由水選擇性的吸收的一個或多個波長的輻射。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中所述的多個照射處理部分通過促使其上的損傷痊愈的充足的距離間隔開。

4.根據權利要求1所述的裝置，進一步包括至少一個聚焦部件和被耦合到聚焦部件上的定位機構用于移動所述聚焦部件以便將輻射聚焦到所述的多個處理部分。

5.根據權利要求4所述的裝置，其中所述的至少一個聚焦部件包括可調整深度的聚焦部件。

6.根據權利要求5所述的裝置，其中所述的至少一個可調整深度的聚焦部件包括與所述的輻射源光耦合的變焦透鏡以接收輻射并沿著光軸移動，以便將輻射聚焦到空間上隔開的處理部分，至少一些空間上隔開的處理部分被定位在所述的體積部分內的不同深度。

7.根據權利要求1的裝置，其中每個光學元件將輻射源接收的輻射聚焦到具有長度和厚度的狹窄的長條上。

8.根據權利要求1的裝置，其中所述的光學系統將輻射集中到所述的體積部分以至于所述的照射處理部分被定型為選定大小和厚度的圓柱體、球體、橢球體或實心長方體。

9.根據權利要求1的裝置，其中每個光學元件集中所述的輻射源接收的輻射到具有長度和厚度的多個行上，其中用于一些元件的行相對于用于另一些元件的行處在選定的角度。

10.根據權利要求1的裝置，其中所述的光學系統進一步包括掃描反射鏡和掃描透鏡，所述的掃描反射鏡和掃描透鏡用于掃描應用于所述的光學元件上的輻射，以便將所述的輻射在一個時間連續地聚焦到N個所述的處理部分，其中N是所述的處理部分的數量并且N＞1。

11.根據權利要求1的裝置，其中所述的輻射源生成具有一個或多個波長的輻射，其中波長在1050-1220nm范圍或1650-1780nm范圍或2100-2300nm范圍的任意一個范圍內。

12.根據權利要求1的裝置，其中所述的輻射源生成具有波長在1550-1820nm范圍或1600-1820nm范圍或2150-2300nm范圍內的輻射。

13.根據權利要求1的裝置，其中所述的輻射源生成具有波長在1520-1850nm范圍或2150-2260nm范圍內的輻射。

14.根據權利要求1的裝置，其中所述的輻射源生成具有波長在400-1800nm范圍內的輻射。

15.根據權利要求1的裝置，其中所述的光學系統將輻射聚焦到皮膚深度在0.5mm至4mm之間。

16.根據權利要求1的裝置，其中所述的光學系統包括微透鏡系統。

17.根據權利要求1的裝置，其中所述的光學系統包括圓柱透鏡陣列。