[發(fā)明專利]一種對基板進(jìn)行標(biāo)記的方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201310030975.4
• 申請日: 2013-01-25
• 公開（公告）號: CN103969943A
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王亮;郭建
• 申請（專利權(quán)）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F1/42
• 分類號: G03F1/42;G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 張穎玲;張振偉

1.一種對基板進(jìn)行標(biāo)記的方法，其特征在于，該方法包括：

在基板的構(gòu)圖工藝中，利用帶有標(biāo)記圖案的掩膜版對所述基板進(jìn)行曝光，在所述基板上形成與所述標(biāo)記圖案相對應(yīng)的標(biāo)識。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，與所述標(biāo)記圖案相對應(yīng)的標(biāo)識是通過對所述基板進(jìn)行一次曝光而形成的。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述標(biāo)記圖案包括多個標(biāo)記符號，與所述標(biāo)記圖案相對應(yīng)的標(biāo)識是通過對所述基板進(jìn)行多次曝光而形成的，其中每次曝光在所述基板上形成至少一個所述標(biāo)記符號對應(yīng)的標(biāo)識。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述每次曝光在所述基板上形成至少一個所述標(biāo)記符號，包括：每次曝光時，在所述基板上形成至少一個所述標(biāo)記符號，同時保留之前曝光時所形成的標(biāo)記符號。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板包括多個面板區(qū)域，每個面板區(qū)域有對應(yīng)的標(biāo)記圖案；

在所述基板上形成與所述標(biāo)記圖案相對應(yīng)的標(biāo)識，包括：在每個面板區(qū)域上形成與該面板區(qū)域?qū)?yīng)的標(biāo)記圖案所對應(yīng)的標(biāo)識。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：在用于對基板進(jìn)行曝光的掩膜版上設(shè)置所述標(biāo)記圖案。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述構(gòu)圖工藝過程包括多次曝光，曝光次數(shù)與所述掩膜版數(shù)目相等；每個掩膜版上帶有至少一個所述標(biāo)記符號。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，除了第一次曝光時所應(yīng)用的掩膜版以外，在各掩膜版上設(shè)置與前一次曝光所形成的標(biāo)識符號相對應(yīng)的顯露圖案。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，設(shè)置所述顯露圖案的方法為：

在掩膜版上與所述基板上因第一次曝光之后的曝光而被覆蓋的標(biāo)記圖案的位置相對應(yīng)的位置設(shè)置顯露圖案；

所述顯露圖案的形狀與被覆蓋的所述標(biāo)記圖案的形狀相同或包含被覆蓋的標(biāo)記圖案的形狀。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，該方法還包括：

在進(jìn)行所述第一次曝光之后的一次曝光時，曝光與掩膜版上所設(shè)置的顯露圖案相對應(yīng)的基板上覆蓋標(biāo)記圖案的區(qū)域，將基板上被該區(qū)域所覆蓋的之前一次曝光所形成的標(biāo)記圖案顯露出來。

11.根據(jù)權(quán)利要求3至10任一項所述的方法，其特征在于，所述掩膜版包括第一掩膜版、第二掩膜版；

構(gòu)圖工藝過程包括多次曝光時，所述曝光的過程包括：將第一掩膜版覆蓋在基板上并進(jìn)行曝光，在基板上形成設(shè)置于第一掩膜版上的標(biāo)記圖案；之后將第二掩膜版覆蓋在基板上并進(jìn)行曝光，在所述基板上形成設(shè)置于第二掩膜版上的標(biāo)記圖案，最終在基板上形成由設(shè)置于第一掩膜版上的標(biāo)記圖案以及設(shè)置于第二掩膜版上的標(biāo)記圖案組成的標(biāo)記圖案。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，

所述將第一掩膜版覆蓋在基板上并進(jìn)行曝光的操作位于形成柵極金屬層的曝光工藝中；

所述將第二掩膜版覆蓋在基板上并進(jìn)行曝光的操作位于形成源漏極金屬層的曝光工藝中。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述標(biāo)記圖案包括數(shù)字、字母、其它具有標(biāo)識作用的形狀中的至少一種。