[發(fā)明專利]一種測(cè)量哈特曼波前傳感器子孔徑中傾斜像差的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310030430.3
• 申請(qǐng)日: 2013-01-27
• 公開（公告）號(hào): CN103105235A
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王帥;楊平;許冰;劉文勁;雷翔;晏虎;董理治;高源;程生毅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所
• 主分類號(hào): G01J9/00
• 分類號(hào): G01J9/00
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責(zé)任公司 11251
• 代理人: 顧煒;賈玉忠

1.一種測(cè)量哈特曼波前傳感器子孔徑中傾斜像差的方法，其特征在于通過以下步驟實(shí)現(xiàn)：

步驟1：哈特曼波前傳感器子孔徑中子波前由Walsh函數(shù)序列展開，展開項(xiàng)中第1階Walsh函數(shù)系數(shù)和第2階Walsh函數(shù)系數(shù)與子波前中x方向傾斜像差，即第1階Zernike多項(xiàng)式系數(shù)和y方向傾斜像差，即第2階Zernike多項(xiàng)式系數(shù)存在一定的比例關(guān)系k₁、k₂，由哈特曼波前傳感器子孔徑排布特征確定，即有：

aZ1=k1·aW1]]>和aZ2=k2·aW2;---(1)]]>

步驟2：在哈特曼波前傳感器子孔徑范圍內(nèi)的子光波進(jìn)入微透鏡之前，分別對(duì)子光波進(jìn)行第1、第2階Walsh函數(shù)二元相位調(diào)制，且調(diào)制幅度為“-β”，即調(diào)制時(shí)相位調(diào)制器附加的相位信號(hào)為-β·W_i，其中i取1或2，W_i表示第i階Walsh函數(shù)形式；

步驟3：調(diào)制后的子光波被微透鏡聚焦進(jìn)入之后的單模光纖進(jìn)行Walsh函數(shù)二元像差選模濾波，單模光纖只讓子光波波前相位展開式即Walsh函數(shù)形式展開中的基膜成分，即第0階Walsh函數(shù)項(xiàng)通過；

步驟4：單敏探測(cè)器在單模光纖另一端，接收經(jīng)過每次調(diào)制濾波后最終出射的光強(qiáng)大小，得到三種情況下的光強(qiáng)數(shù)據(jù)，即：無調(diào)制光強(qiáng)I₀、第1階Walsh函數(shù)二元相位調(diào)制I₁和第2階Walsh函數(shù)二元相位調(diào)制I₂；

步驟5：根據(jù)I₀、I₁、I₂和β，由二元相位調(diào)制濾波數(shù)學(xué)模型，求解得到子孔徑內(nèi)子波前中第1、2階Walsh函數(shù)系數(shù)大小為：

aWi=tan-1(Ii/I0-cosβsinβ),i=1,2;---(2);]]>

步驟6：由步驟5求得的第1、2階Walsh函數(shù)系數(shù)結(jié)合步驟1中確定的比例系數(shù)k₁、k₂，即求出子孔徑內(nèi)子波前x、y兩個(gè)方向傾斜像差系數(shù)即子波前的Zernike多項(xiàng)式展開式中第1、2階Zernike多項(xiàng)式系數(shù)。