[發明專利]一種非對稱自屏蔽開放式磁共振成像超導磁體

有效

• 申請號: 201310030280.6
• 申請日: 2013-01-25
• 公開（公告）號: CN103151136A
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 倪志鵬;王秋良;嚴陸光
• 申請（專利權）人: 中國科學院電工研究所
• 主分類號: H01F6/00
• 分類號: H01F6/00;H01F6/06;G01R33/3815
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251
• 代理人: 關玲

1.一種非對稱自屏蔽開放式磁共振成像超導磁體，其特征在于所述的超導磁體包括超導主線圈、超導屏蔽線圈、超導軸向勻場線圈(4)和超導徑向勻場線圈(5)；所述的超導主線圈、超導屏蔽線圈、超導軸向勻場線圈(4)和超導徑向勻場線圈(5)均安裝在具有矩形截面的預布置線圈區域(1)內；超導軸向勻場線圈(4)和超導徑向勻場線圈(5)分別安裝兩個圓柱形骨架上，兩個圓柱形骨架的中平面與球形成像區域(6)的中心點(9)重合；超導主線圈和超導屏蔽線圈共同作用在軸向方向偏離超導磁體中心(10)距離為10cm、直徑為50cm的球形成像區域(6)內產生磁場峰峰值不均勻度為10ppm的高均勻度磁場分布，超導軸向勻場線圈(4)和超導徑向勻場線圈(5)分別產生矯正磁場使得球形成像區域(6)的磁場峰峰值不均勻度優于1ppm。

2.按照權利要求1所述的非對稱自屏蔽開放式磁共振成像超導磁體，其特征在于所述的超導主線圈由八個以對稱軸(7)為中心軸的軸對稱螺線管線圈組成；八個螺線管線圈分別安裝在預布置線圈區域(1)空間中距離中心軸(7)最近的徑向位置處，由預布置線圈區域(1)的軸向一端部位置向另一端部位置依次安裝第一超導主線圈(2.1)、第二超導主線圈(2.2)、第三超導主線圈(2.3)、第四超導主線圈(2.4)、第五超導主線圈(2.5)、第六超導主線圈(2.6)、第七超導主線圈(2.7)和第八超導主線圈(2.8)；第一超導主線圈(2.1)、第三超導主線圈(2.3)、第四超導主線圈(2.4)、第五超導主線圈(2.5)、第六超導主線圈(2.6)、第七超導主線圈(2.7)和第八超導主線圈(2.8)均通正向電流，第二超導主線圈(2.2)通反向電流。

3.按照權利要求1所述的非對稱自屏蔽開放式磁共振成像超導磁體，其特征在于所述的超導屏蔽線圈由兩個均以對稱軸(7)為中心軸的軸對稱螺線管線圈組成，其中第一超導屏蔽線圈(3.1)布置在預布置線圈區域(1)中靠近第一超導主線圈(2.1)的軸向位置、且徑向位置距離磁體中心(10)最遠位置處；第二超導屏蔽線圈(3.2)布置預布置線圈區域(1)中靠近第八超導主線圈(2.8)的軸向位置、且徑向位置距離磁體中心(10)最遠位置處，兩個超導屏蔽線圈均通反向電流。

4.按照權利要求1所述的非對稱自屏蔽開放式磁共振成像超導磁體，其特征在于所述的球形成像區域(6)的直徑為50cm，所述的球形成像區域(6)的中心在軸向方向與整個超導磁體的中心相距10cm。