[發明專利]一種光學晶體的清洗方法無效
| 申請號： | 201310029818.1 | 申請日： | 2013-01-25 |
| 公開（公告）號： | CN103071641A | 公開（公告）日： | 2013-05-01 |
| 發明（設計）人： | 萬文;萬黎明 | 申請（專利權）人： | 安徽環巢光電科技有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/08 | 分類號： | B08B3/08;C11D7/26;C11D7/50 |
| 代理公司： | 安徽匯樸律師事務所 34116 | 代理人： | 丁瑞瑞 |
| 地址： | 238000 安徽*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 光學 晶體 清洗 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光學晶體的清洗方法，其特征在于，包括步驟：
（1）選取潔凈的容器，按照重量百分比計，放入丙二醇正丁醚5%-10%、丙二醇甲醚5%-10%、乙醇10%-20%、異丙醇20%-30%、水40%-50%，充分混勻；
（2）將待清洗的光學晶體放入所述容器內清洗2~3分鐘；
（3）將光學晶體取出，用水清洗1~2分鐘；
（4）反復步驟（2）（3）操作3~5次；
（5）將光學晶體烘干。
2.根據權利要求1所述的光學晶體的清洗方法，其特征在于，所述步驟（1）中，水為去離子水。
3.根據權利要求2所述的光學晶體的清洗方法，其特征在于，所述步驟（1）中，先放入去離子水、丙二醇正丁醚，混勻，添加丙二醇甲醚，混勻后，再添加乙醇，混勻后，最后再添加異丙醇，充分混勻。
4.根據權利要求1所述的光學晶體的清洗方法，其特征在于，所述步驟（5）中，將光學晶體在70°C~80°C烘干3~5分鐘。
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