[發明專利]液晶顯示裝置及其制造方法有效
| 申請號: | 201310028150.9 | 申請日: | 2013-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN103217838A | 公開(公告)日: | 2013-07-24 |
| 發明(設計)人: | 伊東理;平塚崇人;山本昌直;石垣利昌;園田大介 | 申請(專利權)人: | 株式會社日本顯示器東 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 楊宏軍;馬立榮 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及壁電極方式的液晶顯示裝置,尤其涉及將壁構造和電極的平面分布最優化后的液晶顯示裝置。
背景技術
液晶顯示裝置由于具有顯示質量高、且薄型輕質、功耗低等特征,因此被廣泛地用于從小型的移動終端到大型電視機的領域。
另一方面,在液晶顯示裝置中存在視場角特性的問題,為了實現廣視場角,提出了IPS(In-Plane?Switching,共面轉換)方式的液晶顯示裝置。在IPS方式中,在水平取向(homogeneous?alignment)的液晶層中,施加與基板平行的方向的電場來使液晶指向矢(1iquid?crystal?director)在液晶層平面內旋轉,由此控制背光源的光量來顯示圖像。
在專利文獻1中公開有如下液晶顯示裝置:該液晶顯示裝置包括:m×n個矩陣狀的像素;像素內的有源元件;施加規定電壓波形的驅動機構;以及在像素內將上下基板之間的間隙保持一定的電極對,并且液晶顯示裝置具有能夠通過在所述電極對之間施加與基板面平行的電場來控制液晶分子的取向狀態從而對光進行調制的規定構造(參照專利文獻1摘要)。
此外,在專利文獻2中公開有如下橫向電場驅動方式的液晶光電裝置:該液晶光電裝置具有至少一方為透明基板的一對基板、及配置在所述一對基板之間的液晶層,在所述一對基板中任一方的基板上設置有能夠在與基板面平行的方向上形成具有主要成分的電場的像素電極及公共電極,所述像素電極及公共電極設置在具有規定高度的壁上,所述壁由輔助電容電極及覆蓋所述輔助電容電極的絕緣體構成(參照專利文獻2摘要)。
專利文獻1:日本特開平6-214244號公報
專利文獻2:日本特開平9-211477號公報
發明內容
研究了對液晶層施加理想的橫電場,實現超過現有IPS方式的透過率的壁電極方式的IPS。壁電極方式IPS的壁構造的高度與液晶層厚相等,例如為4μm左右。在其制作過程中,透明電極(ITO電極)的光刻工序成為問題。若成為兩個透明電極邊界的狹縫分布在壁構造頂部和平坦部這兩者上,則在一同加工該狹縫時,抗蝕劑的膜厚或曝光機的焦點的對準方式在壁構造頂部和平坦部不同。因此,易在壁構造頂部產生過蝕刻,易在平坦部產生蝕刻不足。為了解決該情況,考慮例如使掩模上的狹縫寬度在壁構造頂部窄于完成尺寸,在平坦部寬于完成尺寸。但是,若狹縫越過壁構造,則如何確定越過部附近的狹縫寬度成為課題。假設,即使在包括越過部附近在內都完美地描繪了掩模,但若在壁構造和電極處產生錯位,也不能得到效果。這樣,在壁電極方式的IPS中,存在壁構造和電極的平面分布的最優化這一課題。
在專利文獻1及專利文獻2中記載有在壁構造的兩壁面具有被獨立控制的電極的液晶顯示裝置,但并未記載壁構造和電極的平面分布的最優化。
本發明的目的在于在壁電極方式的IPS中,將壁構造與電極的平面分布最優化,并提高成品率。
為了解決上述課題,例如采用權利要求書中記載的結構。
列舉本發明的液晶顯示裝置的一個例子如下:一種液晶顯示裝置,其呈矩陣狀地配置有多個像素,各像素包括:絕緣體的壁構造,其形成于像素邊界;源電極,其由形成在上述像素邊界的壁構造的側面的壁電極、及與該壁電極連續且從壁電極與基板接觸的位置開始在平面方向延伸的平面電極構成;第一公共電極,其設置于像素兩側的源電極之間,且隔著絕緣層與上述平面電極有一部分重疊,從而形成保持電容;以及第二公共電極,其設置在上述像素兩側的壁電極之間,在所述液晶顯示裝置中,將成為相鄰兩個像素的壁電極的邊界的狹縫選擇性地配置在上述壁構造的頂部。
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