[發(fā)明專利]處理裝置和處理狀態(tài)的確認方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310027600.2 | 申請日: | 2013-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN103225074A | 公開(公告)日: | 2013-07-31 |
| 發(fā)明(設計)人: | 廣瀬勝人;宮澤俊男;平田俊治;田中利昌 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創(chuàng)株式會社 |
| 主分類號: | C23C16/52 | 分類號: | C23C16/52;C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 裝置 狀態(tài) 確認 方法 | ||
1.一種處理裝置,其特征在于,包括:
收納被處理體的處理容器;
氣體供給通路,其與供給至所述處理容器內的處理氣體的種類對應地設置于多個系統(tǒng);
配置于所述多個系統(tǒng)的各個氣體供給通路,進行所述氣體供給通路的開啟和關閉的多個閥門;
測量部,其測量所述氣體供給通路的處理氣體的物理參數(shù);
寄存部,其保存由所述測量部測量到的所述物理參數(shù);和
控制部,其根據(jù)保存于所述寄存部的所述物理參數(shù)的信息,判斷處理的狀態(tài),其中,
所述寄存部設置于下級的控制單元,該下級的控制單元以能夠與所述控制部進行信號的發(fā)送和接收的方式與所述控制部連接并受所述控制部控制,并且對所述控制部與終端器件之間的輸入輸出信號進行控制。
2.如權利要求1所述的處理裝置,其特征在于:
在所述多個系統(tǒng)的氣體供給通路的一部分或全部還設置有緩沖罐,該緩沖罐作為所述氣體供給通路的一部分設置在與所述閥門相比位于氣體供給方向的上游側的位置,
所述測量部為測量所述緩沖罐內的氣體壓力的壓力計,
所述物理參數(shù)為所述緩沖罐內的氣體壓力的變化的最大值和/或最小值。
3.如權利要求2所述的處理裝置,其特征在于:
所述控制部在所述最大值和/或最小值超過規(guī)定的閾值時判斷為處理異常。
4.如權利要求1所述的處理裝置,其特征在于:
所述測量部為:在所述氣體供給通路中設置于與所述閥門相比位于氣體供給方向的上游側的位置,并對通過該氣體供給通路的氣體流量進行測量的流量計,
所述物理參數(shù)為在單位期間內由所述流量計測量出的氣體流量的累計值。
5.如權利要求4所述的處理裝置,其特征在于:
所述單位期間為對被處理體交替供給多個種類的氣體來進行成膜的ALD處理中的一個循環(huán)。
6.如權利要求1~5中的任一項所述的處理裝置,其特征在于:
該處理裝置為對被處理體交替供給多個種類的氣體來進行成膜的ALD裝置。
7.一種處理狀態(tài)的確認方法,其為在處理裝置中對處理的狀態(tài)進行判斷的處理狀態(tài)的確認方法,其中,所述處理裝置包括:
收納被處理體的處理容器;
氣體供給通路,其與供給至所述處理容器內的處理氣體的種類對應地設置于多個系統(tǒng);
配置于所述多個系統(tǒng)的各個氣體供給通路,進行所述氣體供給通路的開啟和關閉的多個閥門;
測量部,其測量所述氣體供給通路中的處理氣體的物理參數(shù);
寄存部,其保存由所述測量部測量到的所述物理參數(shù);和
控制部,其根據(jù)保存于所述寄存部的所述物理參數(shù)的信息,判斷所述處理的狀態(tài),
所述處理狀態(tài)的確認方法的特征在于,包括:
所述寄存部保存所述物理參數(shù)的步驟;和
所述控制部從所述寄存部取得有關所述物理參數(shù)的信息,對所述處理的狀態(tài)進行判斷的步驟,
所述寄存部設置于下級的控制單元,該下級的控制單元以能夠與所述控制部進行信號的發(fā)送與接收的方式與所述控制部連接,并受所述控制部控制,并且對所述控制部與終端器件之間的輸入輸出信號進行控制。
8.如權利要求7所述的處理狀態(tài)的確認方法,其特征在于:
所述處理裝置,在所述多個系統(tǒng)的氣體供給通路的一部分或全部還設置有緩沖罐,該緩沖罐作為所述氣體供給通路的一部分設置在與所述閥門相比位于氣體供給方向的上游側的位置,
所述測量部為測量所述緩沖罐內的氣體壓力的壓力計,
所述物理參數(shù)為所述緩沖罐內的氣體壓力的變化的最大值和/或最小值。
9.如權利要求8所述的處理狀態(tài)的確認方法,其特征在于:
所述控制部在所述氣體壓力的變化的最大值和/或最小值超過規(guī)定的閾值時判斷為處理異常。
10.如權利要求7所述的處理狀態(tài)的確認方法,其特征在于:
所述測量部為:在所述氣體供給通路中設置于與所述閥門相比位于氣體供給方向的上游側的位置,并對通過該氣體供給通路的氣體流量進行測量的流量計,
所述物理參數(shù)為在單位期間內通過所述流量計測量出的氣體流量的累計值。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





