[發明專利]一種堿性拋光液及拋光方法

有效

• 申請號: 201310027550.8
• 申請日: 2013-01-24
• 公開（公告）號: CN103965788B
• 公開（公告）日: 2017-10-13
• 發明（設計）人: 周文婷;王晨;何華鋒
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;H01L21/321
• 代理公司: 北京大成律師事務所11352
• 代理人: 李佳銘

1.一種堿性拋光液，其特征在于，包含：研磨顆粒，唑類化合物，絡合劑，C₁～C₄季胺堿，調節硅片表面平整度的表面活性劑及聚羧酸烷基銨鹽；其中，所述的C1～C4季銨堿選自四甲基氫氧化銨(TMAH)，四丁基氫氧化銨(TBAH)，丁基三甲基氫氧化銨和三丁基甲基氫氧化銨中的一種或多種；所述的調節硅片表面平整度的表面活性劑為聚乙烯吡咯烷酮(PVP)和/或壬基酚聚氧乙烯醚；所述的聚羧酸烷基銨鹽選自聚丙烯酸烷基銨鹽，聚馬來酸烷基銨鹽，丙烯酸和馬來酸共聚物烷基銨鹽中的一種或多種。

2.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述研磨顆粒為氣相SiO₂和溶膠SiO₂中的一種或多種。

3.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的研磨顆粒濃度為質量百分比含量為3～15wt％。

4.根據權利要求3所述的拋光液，其特征在于，所述的研磨顆粒濃度為質量百分比含量為3～10wt％。

5.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的唑類化合物選自苯駢三氮唑(BTA)，甲基苯駢三氮唑(TTA)及2,2'-[[(甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亞氨基]雙乙醇中的一種或多種。

6.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的唑類化合物的濃度為質量百分比0.005％～0.1wt％。

7.根據權利要求6所述的拋光液，其特征在于，所述的唑類化合物的濃度為質量百分比0.005％～0.05wt％。

8.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的絡合劑為氨基酸、檸檬酸、丙二酸、有機膦酸中的一種或多種。

9.根據權利要求8所述的拋光液，其特征在于，所述的有機膦酸為羥基亞乙基二膦酸(HEDP),2-磷酸丁烷-1，2，4-三羥酸(JH-906)中的一種或多種。

10.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的絡合劑的濃度為質量百分比0.05％～1wt％。

11.根據權利要求10所述的拋光液，其特征在于，所述的絡合劑的濃度為質量百分比0.05～0.5wt％。

12.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的C₁～C₄季銨堿的質量百分比含量為0.05～1wt％。

13.根據權利要求12所述的拋光液，其特征在于，所述的C₁～C₄季銨堿的質量百分比含量為0.05～0.5wt％。

14.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的調節硅片表面平整度的表面活性劑質量百分比含量為0.01～1wt％。

15.根據權利要求14所述的拋光液，其特征在于，所述的調節硅片表面平整度的表面活性劑質量百分比含量為0.01～0.5wt％。

16.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的聚羧酸烷基銨鹽中烷基鏈長為C₃-C₁₈。

17.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的聚羧酸烷基銨鹽質量百分比0.05％～1wt％。

18.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的聚羧酸烷基銨鹽質量百分比0.05％～0.5wt％。

19.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述拋光液還包含氧化劑，所述氧化劑為過氧化氫。

20.根據權利要求19所述的拋光液，其特征在于，所述過氧化氫的質量百分比0.1～1wt％。

21.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的拋光液pH值為9-12。

22.根據權利要求1所述的拋光液，其特征在于，所述的拋光液還包含pH值調節劑，其中，所述pH值調節劑為堿或酸。

23.根據權利要求22所述的拋光液，其特征在于，所述的堿為KOH，所述的酸為HNO₃。

24.一種如權利要求1-23任一項所述的拋光液在拋光阻擋層中的應用。