[發明專利]一種磁瓦罩殼組件內徑高度快速檢測裝置有效
| 申請號: | 201310027320.1 | 申請日: | 2013-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN103075988A | 公開(公告)日: | 2013-05-01 |
| 發明(設計)人: | 陳守亮;楊定偉;陳華軒;王衛林;張乾峰;劉慶威;顧石成 | 申請(專利權)人: | 蘇州凱蒂亞半導體制造設備有限公司 |
| 主分類號: | G01B21/14 | 分類號: | G01B21/14 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人: | 馬明渡 |
| 地址: | 215121 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 罩殼 組件 內徑 高度 快速 檢測 裝置 | ||
技術領域
本發明屬于自動化機械設備制造技術領域,為一種檢測裝置,具體涉及一種磁瓦罩殼組件內徑高度快速檢測裝置。
背景技術
參見圖1-3,磁瓦6是一種主要應用在永磁電機上的磁鐵,呈弧形的瓦片狀,具有內弧面和外弧面。在電機制造時,將兩個磁瓦6內弧面相對裝設在圓筒狀罩殼17上后形成一體的磁瓦罩殼組件10,該組件是電機零部件之一。兩個磁瓦6的內弧面相對形成一圓柱形,該圓柱與圓筒狀的罩殼17同軸。
在磁瓦6安裝在罩殼17上后需要對磁瓦罩殼組件10進行檢測,主要檢測兩個磁瓦6內弧面所在圓柱形的直徑(即內徑d),以及檢測磁瓦6下緣與罩殼17下緣之間的高度h,以綜合判斷磁瓦6的安裝位置是否正確。現有技術中,由工人對磁瓦罩殼組件10進行檢測,這既難以控制檢測的精度,效率又低,不能滿足自動化機械設備制造對速度和精確度的高要求。
發明內容
本發明提供一種磁瓦罩殼組件內徑高度快速檢測裝置,快速高效,精度高。
為達到上述目的,本發明采用的技術方案是:一種磁瓦罩殼組件內徑高度快速檢測裝置,包括底座及設于該底座上的內徑檢測部和接觸式位移傳感器;
所述內徑檢測部下端固定連接在底座上,上端設有內徑檢測頭,該內徑檢測頭具有剛性的圓形外緣,該圓形外緣的直徑等于磁瓦罩殼組件中兩個磁瓦內弧面所在圓柱形的直徑;
所述接觸式位移傳感器的感測頭當接觸到磁瓦罩殼組件上的磁瓦的下緣時能夠感測到其在豎直方向的位移,該感測頭位于內徑檢測頭的旁側,并對應于磁瓦罩殼組件中的磁瓦;所述感測頭在豎直方向上位于內徑檢測頭的圓形外緣的下方,或者,所述感測頭與內徑檢測頭的圓形外緣位于同一水平面;
所述磁瓦罩殼組件上設有卡腳,在該磁瓦罩殼組件相對于內徑檢測頭在豎直方向運動時進行限位,該卡腳與兩磁瓦的下緣之間間隔距離。
上述技術方案中的有關內容解釋如下:
1、上述方案中,所述檢測裝置還包括一彈性件,所述內徑檢測部的下端經所述彈性件與底座彈性連接,所述彈性件作用于豎直方向。
2、上述方案中,所述接觸式位移傳感器數量為兩個,以內徑檢測頭為基準對稱設于該內徑檢測頭的兩側。
3、上述方案中,所述檢測裝置還包括位置傳感器,用以檢測磁瓦罩殼組件與內徑檢測頭的相對位置。
4、上述方案中,所述內徑檢測部配套設有若干所述內徑檢測頭,這若干內徑檢測頭均與內徑檢測部可拆卸的連接。
5、上述方案中,所述檢測裝置還包括一傳動裝置,該傳動裝置包括由上向下依次設置的接觸銷、連接銷和墊塊,其中接觸銷和連接銷均經一直線軸承與底座在豎直方向滑動連接,所述接觸銷上端在豎直方向上位于內徑檢測頭的圓形外緣的下方,或者,所述接觸銷上端與內徑檢測頭的圓形外緣位于同一水平面;接觸銷下端與連接銷上端接觸,連接銷下端與墊塊上端在豎直方向定位連接,墊塊下端與接觸式位移傳感器的感測頭在豎直方向定位連接。
6、上述方案中,所述墊塊具有一方形本體,該本體的上端和下端均開設一卡槽,所述連接銷下端卡入本體上端的卡槽中,所述接觸式位移傳感器的感測頭卡入本體下端的卡槽中。
本發明工作原理是:對磁瓦罩殼組件檢測時,控制該組件的軸向沿豎直方向、組件的卡腳位于兩磁瓦的上方,將磁瓦罩殼組件豎直向下移動至檢測裝置。檢測裝置上的接觸式位移傳感器的感測頭在豎直方向上位于內徑檢測頭的圓形外緣的下方或位于同一水平面,磁瓦罩殼組件的兩個磁瓦內弧面會先接觸到內徑檢測頭的圓形外緣,當磁瓦罩殼組件能夠繼續向下移動時,說明兩個磁瓦內弧面所在圓柱形的直徑不小于內徑檢測頭的圓形外緣的直徑,此即對磁瓦罩殼組件兩磁瓦內弧面所在圓柱形內徑的檢測。未通過內徑檢測的磁瓦罩殼組件被放入廢料區,通過內徑檢測的磁瓦罩殼組件被控制繼續豎直向下移動。
自動控制系統中預設有一標準值范圍,該標準值范圍是通過一標準工件測量得到的。在磁瓦罩殼組件通過了內徑檢測后繼續向下移動時,磁瓦的下緣面會接觸到接觸式位移傳感器的感測頭并帶動感測頭一起向下移動,直至移動至磁瓦罩殼組件上的卡腳卡住內徑檢測頭進行限位,下移運動停止,感測頭感測到的這一段下移位移量傳入自動控制系統,與標準工件的標準值進行比較,間接判斷磁瓦罩殼組件中的磁瓦下緣與罩殼下緣之間的高度與標準工件相比是否在可接受誤差范圍之內,即完成了組件高度的檢測,檢測合格的組件被放入合格區,不合格組件被放入廢料區。
由于上述技術方案運用,本發明與現有技術相比具有下列優點:
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