[發明專利]一種低彈跳真空滅弧室結構

有效

• 申請號: 201310026113.4
• 申請日: 2013-01-21
• 公開（公告）號: CN103050332B
• 公開（公告）日: 2016-11-23
• 發明（設計）人: 張毅;陳志會;周吉冰
• 申請（專利權）人: 中國振華電子集團宇光電工有限公司（國營第七七一廠）
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664
• 代理公司: 北京聯創佳為專利事務所(普通合伙) 11362
• 代理人: 王娟;郭防

技術領域

本發明涉及一種低彈跳真空滅弧室結構，屬于電力開關設備技術領域。

背景技術

真空滅弧室在合閘過程中，真空滅弧室的動觸頭與靜觸頭在剛接觸直至觸頭穩定接觸瞬間為止，這期間會出現動觸頭與靜觸頭反復的分合過程，即彈跳現象。現目前使用的真空滅弧室在合閘過程中，兩個觸頭間由于剛性碰撞而產生彈跳，彈跳時間長、彈跳幅度大，無法滿足真空斷路器的機械參數要求。這種彈跳現象不僅影響真空滅弧室的穩定性和可靠性，而且在合閘過程中，由于動觸頭與靜觸頭斷開距離小，電弧不會熄滅，真空滅弧室內電弧能量迅速累積，容易產生觸頭發熱、熔焊現象，導致觸頭電磨損加重，嚴重影響真空滅弧室的開斷性能和使用壽命，同時，觸頭合閘彈跳時間過長，會使真空滅弧室的波紋管受強迫振動而出現裂紋，危害波紋管使用壽命，導致真空滅弧室漏氣，從而影響真空滅弧室的使用壽命。

發明內容

本發明的目的在于：提供一種低彈跳真空滅弧室結構，解決現有真空滅弧室彈跳時間長、彈跳幅度大，容易產生觸頭發熱、熔焊現象等問題。

本發明的技術方案：一種低彈跳真空滅弧室結構，包括有杯托，杯托內側面分別與靜觸頭、動觸頭連接，杯托連接的內側面上設有環形槽，環形槽環繞的內圈為中間受力部分，加強筋一端連接杯托上的中間受力部分。

上述的低彈跳真空滅弧室結構，所述環形槽環繞的中間受力部分上設有定位槽。

上述的低彈跳真空滅弧室結構，所述環形槽的深度為2～20mm。

上述的低彈跳真空滅弧室結構，所述中間受力部分的直徑d為15～60mm。

上述的低彈跳真空滅弧室結構，所述杯托分別與靜導電桿和動導電桿連接，靜導電桿、動導電桿上設有凹槽。

上述的低彈跳真空滅弧室結構，所述靜導電桿上的凹槽的寬度為L1、深度為H1，動導電桿上的凹槽的寬度為L2、深度為H2，L1、L2大小為2～50mm，H1大小為對應開槽處動導電桿直徑d1的1/2～1/4倍，H2大小為對應開槽處靜導電桿直徑d2的1/2～1/4倍。

本發明的有益效果：在合閘過程中，動觸頭與靜觸頭相接觸，接觸后，觸頭將反作用力通過加強筋傳遞給杯托上的中間受力部分以及開設有凹槽的導電桿，開設有環形槽的杯托受力面積變小，中間受力部分在受到500kg左右反作用力的作用下易產生微量塑性變形，變形過程中吸收消除反作用力，開設有凹槽的導電桿強度降低，在受力過程中容易發生微量塑性變形，也吸收消除部分反作用力，作用力降低，從而導致彈跳時間縮短、彈跳幅度減小，降低了觸頭發熱、熔焊現象出現的概率，避免了觸頭電磨損加重，延長了真空滅弧室的使用壽命。

附圖說明

附圖1為本發明的結構示意圖；

附圖2為本發明的零件結構示意圖；

附圖3為本發明的零件結構示意圖：

附圖4為本發明的零件結構示意圖；

1-靜導電桿，2-靜觸頭，3-加強筋，4-動觸頭，5-杯托，6-動導電桿，7-環形槽，8-定位槽，9-中間受力部分，10-凹槽。

具體實施方式

本發明的實施例1：如附圖1和附圖2所示，包括有杯托5，杯托5外側面與靜導電桿1、動導電桿6連接，觸頭座5內側面與靜觸頭2、動觸頭4連接，杯托5連接的內側面上設有環形槽7，環形槽7環繞的內圈為中間受力部分9，環形槽7環繞的中間受力部分9上設有定位槽8，加強筋3一端卡入中間受力部分9上的定位槽處，另一端與靜觸頭2、動觸頭4連接，靜導電桿1、動導電桿6上各設有一凹槽10。