[發明專利]感光材料和光刻方法

有效

• 申請號: 201310024509.5
• 申請日: 2013-01-23
• 公開（公告）號: CN103454856B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 張慶裕
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/00;H01L21/027
• 代理公司: 北京德恒律治知識產權代理有限公司11409
• 代理人: 章社杲,孫征

1.一種感光材料，包括：

溶劑；

光生酸劑(PAG)組分；以及

猝滅劑組分，其中，所述PAG組分和所述猝滅劑組分中的至少一種包含烷基氟化物基團。

2.根據權利要求1所述的感光材料，其中，所述猝滅劑組分包含烷基氟化物基團。

3.根據權利要求1所述的感光材料，其中，所述烷基氟化物基團是C₂F₅。

4.根據權利要求1所述的感光材料，其中，所述PAG組分包含烷基氟化物基團。

5.根據權利要求4所述的感光材料，其中，所述烷基氟化物基團連接到所述PAG組分的陰離子組分或者連接到所述PAG組分的陽離子組分。

6.一種在襯底上形成圖案的方法，包括：

提供半導體襯底；

在所述半導體襯底上形成感光層，其中所述感光層包括具有氟原子的第一組分；

在形成所述感光層后，使所述第一組分浮動到所述感光層的頂面；以及

此后，圖案化所述感光層。

7.根據權利要求6所述的方法，其中，所述第一組分包括光生酸劑(PAG)或猝滅劑。

8.根據權利要求6所述的方法，其中，所述第一組分包括光產堿劑(PBG)和光分解猝滅劑(PDQ)中的至少一種。

9.根據權利要求6所述的方法，其中，所述第一組分具有下式：

其中，R1^-、R2、R3和R4中的至少一種包含氟原子；或者

其中，R1^-、R2、R3和R4中的至少一種包含烷基氟化物基團中的氟原子。

10.一種制造半導體器件的方法，包括：

確定與形成第一部件相關的輪廓問題；

確定感光材料配方從而補償所述輪廓問題；

在襯底上形成具有確定的感光材料配方的感光材料層；以及

圖案化所述感光材料層從而提供所述第一部件。