[發明專利]用于使用頻域干涉測量法進行光學成像的方法和設備有效
| 申請號: | 201310023630.6 | 申請日: | 2004-09-08 |
| 公開(公告)號: | CN103293126B | 公開(公告)日: | 2017-03-01 |
| 發明(設計)人: | 尹錫賢;布雷特·尤金·鮑馬;吉列爾莫·J·蒂爾尼;約翰內斯·菲茨杰拉德·德·布爾 | 申請(專利權)人: | 通用醫療公司 |
| 主分類號: | G01N21/45 | 分類號: | G01N21/45 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司11227 | 代理人: | 朱勝,鄭宗玉 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 使用 干涉 測量 進行 光學 成像 方法 設備 | ||
1.一種設備,包括:
至少一個第一裝置,其將至少一個第一電磁輻射提供給樣品并且將至少一個第二電磁輻射提供給非反射參考,其中由所述至少一個第一裝置提供的輻射的頻率隨時間變化;以及
至少一個第二裝置,其檢測關聯于所述至少一個第一輻射的至少一個第三輻射與關聯于所述至少一個第二輻射的至少一個第四輻射之間的干涉。
2.根據權利要求1的設備,其中所述至少一個第三輻射是從所述樣品返回的輻射,并且所述至少一個第四輻射是從所述參考傳遞的輻射。
3.根據權利要求1的設備,進一步包括至少一個第三裝置,其用于移位所述至少一個第一電磁輻射、所述至少一個第二電磁輻射、所述至少一個第三電磁輻射或所述至少一個第四電磁輻射中的至少一個的頻率。
4.根據權利要求1的設備,進一步包括至少一個第三裝置,其基于所檢測的干涉生成圖像。
5.根據權利要求4的設備,進一步包括探頭,其掃描所述樣品的橫向位置以生成掃描數據,并且其將所述掃描數據提供給所述第三裝置以便生成所述圖像。
6.根據權利要求5的設備,其中所述掃描數據包括在所述樣品上的多個橫向位置獲得的所檢測的干涉。
7.根據權利要求1的設備,其中至少一個第二裝置包括至少一個光電檢測器和跟隨著所述至少一個光電檢測器的至少一個電濾波器。
8.根據權利要求3的設備,其中至少一個第二裝置包括至少一個光電檢測器和跟隨著所述至少一個光電檢測器的至少一個電濾波器。
9.根據權利要求8的設備,其中所述至少一個電濾波器是帶通濾波器,其具有與通過所述頻移裝置的頻移的量值大約相同的中心頻率。
10.根據權利要求9的設備,其中所述電濾波器的傳輸特性基本上在其通帶上變化。
11.根據權利要求5的設備,其中所述探頭包括旋轉接合和光纖導管。
12.根據權利要求11的設備,其中所述導管以高于每秒30轉的速度旋轉。
13.根據權利要求1的設備,進一步包括至少一個偏振調制器。
14.根據權利要求1的設備,其中所述至少一個第二裝置能夠檢測所述第一和第二電磁輻射中的至少一個的偏振態。
15.根據權利要求1的設備,其中所述至少一個第二裝置包括至少一個雙平衡接收器。
16.根據權利要求1的設備,其中所述至少一個第二裝置包括至少一個偏振分集接收器。
17.根據權利要求1的設備,其中所述至少一個第二裝置包括至少一個偏振分集和雙平衡接收器。
18.根據權利要求1的設備,進一步包括至少一個第三裝置,用于跟蹤至少下列之一之間的相位差:
·所述至少一個第一電磁輻射與所述至少一個第二電磁輻射,以及
·所述至少一個第三電磁輻射與所述至少一個第四電磁輻射。
19.根據權利要求1的設備,進一步包括發射特定輻射的裝置,當所述至少一個第一裝置基于所述特定輻射提供所述第一和第二電磁輻射時,所述特定輻射被提供給所述至少一個第一裝置,其中所述第一和第二電磁輻射中的至少一個具有中值頻率以大于每毫秒100萬億赫茲的調諧速度隨時間基本上連續變化的譜。
20.一種方法,包括下列步驟:
將至少一個第一電磁輻射提供給樣品并且將至少一個第二電磁輻射提供給非反射參考,其中所述第一和第二輻射中的至少一個的頻率隨時間變化;以及
檢測關聯于所述至少一個第一輻射的至少一個第三輻射與關聯于所述至少一個第二輻射的至少一個第四輻射之間的干涉。
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