[發明專利]光學調節裝置無效
| 申請號: | 201310023349.2 | 申請日: | 2013-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN103211609A | 公開(公告)日: | 2013-07-24 |
| 發明(設計)人: | T.漢尼曼 | 申請(專利權)人: | 西門子公司 |
| 主分類號: | A61B6/03 | 分類號: | A61B6/03;A61B5/055 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 謝強 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 調節 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種特別是在成像的醫學技術設備處的光學調節裝置。此外,本發明還涉及一種用于調節成像的醫學技術設備的方法,特別是用于產生三維圖像數據的設備的激光單元的方法。
背景技術
成像的醫學技術設備處的光學調節裝置通常利用激光輻射工作并且例如從DE195?01?069A1中以及從DE10?2008?013?615A1中公知。在這兩個文獻中使用了交叉的扇形狀的射線束用于標記目的??梢詫l射激光的射線源(例如二極管激光器)固定在醫學技術設備的組件上。
此外,作為成像的醫學技術設備,能使用計算機斷層造影儀和磁共振斷層造影儀。這樣的斷層造影儀用于產生對應于坐標系的三維圖像數據。如果醫學技術設備具有光學標記系統,則這樣的標記系統的組件的、特別是激光偏轉單元的空間布置同樣可以借助坐標系來描述。如果應當建立一個在一方面的三維圖像數據的坐標系和另一方面的光學標記系統的坐標系之間的、定義的幾何關系,則需要對組件進行開銷大的調節。
發明內容
本發明要解決的技術問題是,相對于現有技術,進一步擴展特別是對于在成像的醫學技術設備中的使用來說合適的光學調節裝置。
通過按照本發明的特征的調節裝置以及通過本發明的用于調節激光單元的方法解決了所述技術問題。以下結合所述調節裝置所解釋的構造和優點也適用于所述方法,并且反之亦然。
本發明從如下考慮出發:為了調節在成像的醫學技術設備處的利用激光輻射工作的光學系統,可以使用調節模體,所述調節模體具有已知的幾何特征并且通過布置在醫學技術設備處的激光單元照射。例如可以通過置于模體的表面上的探測器來采集擊中調節模體的激光輻射。由探測器所采集的信號直接顯示了,在調節模體的哪個位置上出現例如線形或扇形的激光輻射。
本發明有意地回避了借助調節模體對激光束的這種直接采集。按照本發明,雖然設置調節模體,但是該調節模體不具有探測器,而是具有至少一個發熒光的介質所構成的標記物。當該標記物遭受激光單元的輻射時,該標記物發射具有與由激光單元發射的射線相比不同的波長的光線。為了探測由發熒光的標記物在調節模體上發射的光,設置了與調節模體在空間上分離的光電探測器。該光電探測器優選是光電二極管。但是原則上響應由熒光介質發射的光的任意其它探測器也可以是合適的。在此,優選這樣構造并且定位所述調節模體,使在通過成像的設備產生的圖像中也可以額外地識別該調節模體。由此,在圖像坐標系中模體的方位可以與激光坐標系和/或空間坐標系相關。因此,模體由合適的材料(例如具有對于X射線輻射的高吸收的材料)組成或包括這樣的材料,從而其本身在圖像中是可以識別的。優選地,所述模體是由合適的材料構成的物質體,例如球體,該物質體具有涂層,所述涂層具有發熒光的介質。
按照第一可能的實施方式,調節模體被布置在成像的醫學技術設備的、特別是計算機斷層造影儀的患者臥榻上。調節模體也包括利用成像的醫學技術設備特別是通過計算機斷層造影儀的X射線輻射可以被探測的結構,特別是點形的標記物。這些結構按照與發熒光的標記物已知的幾何關系布置。特別地,發熒光的標記物可以直接被涂覆到調節模體的、利用成像的醫學技術設備可識別的結構上。
按照第二可能的實施方式,調節模體是患者臥榻的集成的組成部分。例如具有幾何上定義的、特別是點形的結構的熒光介質位于臥榻板的端面上,所述臥榻板構成患者臥榻的可移動的、特別是縱向可移動的和/或高度可移動的組件。
在每個提到的實施方式中,熒光介質可以按照至少近似點形、例如圓盤形、球缺形或球形的標記物的形式被設置到調節模體上。這樣的標記物的直徑優選為2至5mm。
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